Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Powiadomienia systemowe
  • Sesja wygasła!
  • Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  transparentne warstwy przewodzące
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
Purpose: This paper deals about the preparation and characterization of transparent conducting metal oxide doped with fluorine for superhydrophobic applications. Design/methodology/approach: Fluorine doped tin oxide(FTO) have been deposited on glass substrate employing an inexpensive spray pyrolysis route. Uniform coating of thin film was controlled by the parameters like flow rate, exposure duration, temperature of pyrolysis process etc. Findings: Fluorine doped SnO2 was confirmed from FTIR studies. Transparent nature of the coating was evaluated through UV-vis. spectroscopy. Electrical resistivity of the deposited film measured using source meter showed a least resistance of 13 Ω. AFM & SEM analysis revealed the texture of nano SnO2 in the range of 100-300 nm. Unevenness is one of the prerequisite for achieving superhydrophobic nature, which has been explored through AFM results. Practical implications: An attempt has been done to fabricate fluorine doped tin oxide thin film using spray pyrolysis technique may be used for developing super hydrophobic coating application. Originality/value: This study aims to reduce the cost of forming superhydrophobic surfaces on comparison with the process like plasma etching and sensitizing with nanoparticles, etc.
PL
Badania nad domieszkowanym cyną tlenkiem indu (ITO) od wielu lat są stymulowane potrzebą optymalizacji procesu wytwarzania w celu otrzymania transparentnej i przewodzącej warstwy na elastycznych podłożach z tworzywa sztucznego. W prezentowanej pracy warstwy ITO są osadzane metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego podtrzymywanego asymetrycznym pulsującym sygnałem stałoprądowym, gdzie docierający do magnetronu sygnał przyjmuje na przemian polaryzację dodatnią i ujemną (rys. 1). Proces ten przez odpowiedni dobór częstotliwości oraz cyklu pracy pozwala wytworzyć w temperaturze pokojowej transparentne w obszarze widzialnym (T > 80%) i o małej rezystancji ( p- 2,2×10-4 ?cm) cienkie warstwy ITO. Ponadto warstwy te charakteryzują się dużą twardością, ważną z aplikacyjnego punktu widzenia, otrzymaną przy relatywnie wysokim współczynniku osadzania.
EN
Investigation on tin doped indium oxides (indium tin oxide - ITO) during the last decade is stimulated by optimization of deposition process with the purpose of obtaining transparent and conductive films on elastic plastic substrate. In present paper the ITO films are deposited by reactive magnetron sputtering support by asymmetric pulse direct current (DC) signals, where power supplied to magnetron changed polarization from negative on positive (Fig. 1). Thanks to a proper selection of frequency and duty cycle, deposited at room temperature the thin films of ITO possessing high transparency in the visible region (T > 80%) and low resistivity ( p- 2.2×10-4 ?cm). Moreover these films have high hardness, important from viewpoint of application, obtained at relatively higher deposition rate.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.