Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: tlenek molibdenu

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Granulacja MoO3 jako półproduktu do procesu stopowania - analiza procesu i właściwości granulatu

Jarosz P., Małecki S., Galanty M., Serkowski S.

Rudy i Metale Nieżelazne

2010

R. 55, nr 10

666-674

W artykule poddano analizie proces granulacji MoO3 z zastosowaniem różnych lepiszczy oraz z dodatkiem fazy metalicznej jako reduktora. Granulacja jest niezbędnym, wstępnym etapem przygotowania związków molibdenu do ich wprowadzenia do ciekłych stopów na osnowie żelaza. Dla wytworzonych w szybkoobrotowym mieszalniku granul wykonano szereg pomiarów, zmierzających do określenia optymalnego rodzaju lepiszcza i jego ilości. Stwierdzono, że z uwagi na przeznaczenie granul MoO3 do procesu stopowania najlepszymi lepiszczami są szkło wodne i nasycony roztwór Na2CO3. Podano wartości podstawowych parametrów granulatu - gęstość pojedynczej granuli, gęstość nasypową, wytrzymałość na ściskanie i inne. Określono optymalne parametry procesu granulacji MoO3 z udziałem reduktorów metalicznych w postaci podziarna żelazokrzemu i wiórów siluminowych.

In the presented work a process of MoO3 granulation with a different kinds of binders and with an addition of a metallic phase as a reducer, was analysed. The granulation is an essential part of preparing molybdenum compounds before alloysing an iron based materials. Various measurements leading to determine an optimal kind and quantity of binder for granules formed in high-rotational mixer, were conducted. It was determined that taking into account MoO3 granules' destination, the best binders for alloying process are liquid glass and saturated solution of Na2CO3. Fundamental parameters of granulate such as density of a single granule, apparent density, compressive strength and others were presented. Optimal parameters of MoO3 granulation process with metallic reducers such as ferrosilicon undergrains and silumin chips were determined.

Badania składu chemicznego cienkich warstw tlenku molibdenu MoO3-x metodą XPS.

Gulbiński W., Suszko T.

Inżynieria Materiałowa

1999

R. XX, nr 5

481-483

W pracy tej, technika XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) została użyta do pomiaru odchyleń od składu stechiometrycznego w badanych warstwach. Stwierdzono, że skład chemiczny otrzymanych drobnokrystalicznych i amorficznych warstw tlenku odpowiada, w granicach błędu pomiarowego, stechiometrycznej formule MoO3. Zaobserwowano także dużą wrażliwość badanych warstw na bombardowanie jonowe w wysokiej próżni. W jego wyniku ma miejsce wyraźny, powierzchniowy ubytek tlenu. Potwierdzają to wyniki analiz, a także zmiany kształtu widma fotoelektronów w walencyjnym przedziale energii, wskazujące na wzrost koncentracji centrów donorowych.

The aim of this work was to estimate the oxygen to molybdenum atomic ratios in thin films under study, by means of XPS method. The photoelectron spectra were registered for as loaded (A) crystalline and amorphous thin oxide films on silicon substrates. Using Mo(3d) and 0(1s) core level lines, the oxygen to molybdenum atomic ratios have been determined as very close, within experimental error, to the valve corresponding to stoichiometric MoO3 oxide. Films of both types have been also found to be highly sensitive to ion bombardment under high vacuum conditions. After such a treatment, significant change of core level and valence band spectra of both, crystalline and amorphous films, can be observed - (B) denoted spectra. This change is due to oxygen vacancies playing a role of donor centers.