Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Przegląd Elektrotechniczny

1 2010

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: thin films Ni-Fe

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Nanoskopowa analiza orientacji domen magnetycznych z wykorzystaniem technik bliskiego pola

Ozimek M., Sikora A., Goworska-Koniarek D., Wilczyński W.

Przegląd Elektrotechniczny

2010

R. 86, nr 4

72-74

Cienkie warstwy NiFe otrzymano na szkle kwarcowym za pomocą impulsowego rozpylania magnetronowego. Proces nakładania prowadzono przy stałej mocy (550 W) i różnym ciśnieniu gazu roboczego (0,4, 1,0, 4,0 Pa). Zbadano strukturę domenową otrzymanych warstw za pomocą mikroskopii sił magnetycznych (MFM). Grubość powłok zawierała się w przedziale od 80 do 150 nm.

NiFe thin films deposited onto Si substrate at room temperature via impulse magnetron sputtering. Magnetron deposition was carried out in sputtering power 550 W and different argon pressure (0.4, 1.0, 4.0 Pa). The ferromagnetic layers thicknesses were 80, 150 and 120 nm respectively. The samples were characterized by X-Ray diffraction. Effect of sputtering parameters on domain structure, as explored by magnetic force microscopy (MFM), was focused. The investigation showed a variety of magnetic domain microstructures