Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Wodziński P.

1 2002

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: technologia przesiewania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wybrane problemy technologii przesiewania materiałów bardzo drobno uziarnionych

Wodziński P.

Inżynieria Mineralna

2002

nr S. 1

107-117

Przesiewanie materiałów drobno i bardzo drobno uziarnionych stanowi najtrudniejszy proces klasyfikacji sitowej. Przesiewanie takie odbywa się w grubych warstwach, które poruszają się po sitach przesiewaczy. W czasie tego ruchu zachodzą dwa zjawiska: segregacja warstwy polegająca na migracji ziaren małych tzn. tych, które wymiarem swoim należą do klasy dolnej i przechodzenie w/w ziaren przez otwory sitowe. Z tych dwóch zjawisk, pierwsze ma zasadnicze znaczenie dla przebiegu procesu. Ono bowiem w znacznej mierze decyduje o przebiegu całego zjawiska przesiewania, w nim zawarty jest główny opór procesowy. Przesiewanie materiałów drobno i bardzo drobno uziarnionych odbywa się w warstwach grubych, tzn. takich, grubość których wynosi powyżej kilkunastu średnic zastępczych przeciętnego ziarna nadawy. W warstwach tych istotną rolę odgrywa właśnie opór warstwy, czyli opór związany z koniecznością pokonania przez ziarna małe, całej grubości łoża i przedostania się w bezpośrednie pobliże sita. Do segregacji i klasyfikacji materiałów drobno uziarnionych używa się przesiewaczy, sita których wykonują płaskie lub przestrzenne drgania o torach nieliniowych. Takie maszyny zostaną omówione w niniejszym opracowaniu.

Screening of fine and very fine materials is the most difficult process of screen classification. Such screening takes place in thick layers which move along the sieves. During this movement two phenomena occur: segregation of the layer which consists in migration of small particles, i.e. such which belong to the undersize fraction, and transition of these particles through the sieve mesh. From these two phenomena the first one is of basic importance for the process because it mostly determines the whole screening process and the main process resistance is just in it. Screening of fine and very fine materials takes place in thick layers, i.e. such whose thickness is equal to more than several equivalent diameters of an average feed particle. In this case the layer resistance plays a vital role. This resistance follows from the fact that small particles must transfer through the whole bed thickness and get near the sieve. To segregate and classify fine materials such screens are used whose sieves produce flat or spatial vibrations of non-linear trajectories. These machines will be discussed in the present study