Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Structure and properties of Al-Cu-Fe thin films deposited by PLD technique

Kąc S., Kąc M.

Inżynieria Materiałowa

|

2010

|

Vol. 31, nr 3

382-385

EN

In this paper the results of the investigations of Al-Cu-Fe thin films obtained by PLD technique are presented. The films were deposited using different parameters of process (e.g. substrate temperature, laser fluence). The morphology and chemical composition of obtained surface layers was examined. In the frames of the investigations the thickness measurements, the nanohardness and adhesion tests of the Al-Cu-Fe layers was performed.

PL

W publikacji przedstawiono wyniki badań cienkich warstw Al-Cu-Fe wytwarzanych techniką PLD. Cienkie warstwy były osadzane z zastosowaniem rożnych parametrów procesu (np. temperatura podłoża, gęstość energii wiązki lasera). Badano morfologię oraz skład chemiczny otrzymanych cienkich warstw. W ramach badań wykonano pomiary grubości, nanotwardości oraz testy adhezji do podłoża cienkich warstw Al-Cu-Fe.

2

Microstructure investigation of thin films SnO2 produced by pulsed laser deposition

Kopia A.

Inżynieria Materiałowa

|

2010

|

Vol. 31, nr 3

398-401

EN

Thin layers SnO2 were produced by the PLD technique by means of an Nd-YAG laser with a Q-switch with & = 266 nm. The layers were deposited on Si substrate with orientation (100). Due to the presence of a thin, several nanometres thing layer of SiO2 on the surface of the substrate, the orientation of the substrate was not mapped. Examinations of the structure were carried out by means of transmission electron microscopy, scanning electron microscopy and X-ray diffraction phase analysis. It was shown that the method of target preparation has impact on the surface quality of the obtained layer. The impact of PLD process parameters on structure changes were identified, which allowed the optimum conditions of producing SnO2 layers with the best developed surface to be determined.

PL

Cienkie warstwy SnO2 wytworzono techniką PLD, wykorzystując laser Nd-YAG z Q-switchem o & = 266 nm. Warstwy nakładane były na podkładki Si o orientacji (100). Z uwagi na obecność cienkiej, kilku manometrycznej warstwy SiO2 na powierzchni podkładek nie uzyskano odwzorowania orientacji podłoża. Badania struktury przeprowadzono za pomocą transmisyjnej mikroskopii elektronowej, mikroskopii elektronowej skaningowej oraz dyfrakcyjnej rentgenowskiej analizy fazowej. Wykazano, iż na jakość otrzymanej powierzchni warstwy wpływa sposób przygotowania tarczy. Określono wpływ parametrów procesu PLD na zmiany struktury, co pozwoliło określić optymalne warunki wytwarzania warstw SnO2 o maksymalnie rozwiniętej powierzchni.

3

The AlMg thin films deposited by using PLD technique

Radziszewska A., Kąc S., Kąc M.

Inżynieria Materiałowa

|

2007

|

Vol. 28, nr 3-4

720-723

EN

In the paper the systematic study of the pulsed laser deposition of P-Mg2Al3 has been carried out. The AlMg thin films were prepared on Si (100) substrates and deposited by using a Nd:YAG laser (k = 355 nm). The samples were performed with two different laser beam energy densities (4,7 and 10 J/cm2) and two different substrate (Si) temperatures (room temperature and 430 °C). The deposition time was kept at 30 min. The variation of structure, chemical composition and surface roughness of the deposited thin films is discussed. Structure and chemical composition investigation showed that the films possess generally nanocrystalline structure and that the quantity of Al and Mg changes along the film depth. The surface topography of films was varied as result of changing of the fluence value and the substrate temperature.

PL

W artykule zostały przeprowadzone systematyczne studia na temat nakładania cienkich warstw P-Mg2Al3 techniką PLD. Cienkie warstwy AlMg były nakładane, na płytki krzemowe (100), za pomocą lasera Nd:YAG ((A. = 355 nm). Próbki wykonano stosując dwie różne gęstości energii promieniowania laserowego(4,7 i 10 J/cm2) oraz różną temperaturę podłoża (Si) (20 °C i 430 °C). Czas nakładania warstw wynosił 30 min. Przedyskutowano zmiany struktury, składu chemicznego oraz chropowatości powierzchni cienkich warstw. Badania strukturalne i składu chemicznego pokazują że warstwy głównie posiadają nanokrystaliczną strukturę oraz zmiany zawartości Al i Mg na przekroju warstwy. Zastosowanie różnych gęstości energii promieniowania laserowego oraz różnej temperatury podłoża powoduje modyfikację topografii powierzchni uzyskanych warstw.

4

Nanomateriały osadzane laserem impulsowym - technika PLD

Major B., Ebner R.

Krzepnięcie Metali i Stopów

|

2000

|

R. 2, nr 42

205--215

EN

Application of ablation and deposition of the plume is a method to produce nanomaterials. At present, it is intensivelly studied due to possibility of deposition of various materials. Flexability of the method and transfer of stoichiometry as well as possibility to influence the plume by atmosphere in the reactive chamber makes this method very useful. Limitation is connected with the equipment comprising a laser working in the range of UV wavelenghts in the regime of nano-seconds pulses. Excimer lasers or Nd:Y AG lasers with Q-switch are used in the pulse laser deposition techniques (PLD). Nanostructures produced using Nd:YAG laser of metallic titanium, titanium nitride, titanium oxide were under examination. XRD and electron diffraction were applied to identify the formed phases in the deposited layers. Microstructure on the surface and on the crosss sections was examined by means of SEM and TEM. Residual stresses and texture in the layers were measured using XRD methods.