Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Rudy i Metale Nieżelazne Recykling

1 2015

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: target magnetron sputtering

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wytwarzanie spieków na bazie metali wysokotopliwych i ziem rzadkich jako materiałów źródłowych do nanoszenia warstw funkcjonalnych metodą magnetronową

Lis M., Woch M., Szatkowski A., Kamińska M., Staszewski M., Kołacz D.

Rudy i Metale Nieżelazne Recykling

2015

R. 60, nr 12

717--722

Wytwarzanie cienkich warstw funkcjonalnych metodą magnetronową wymaga stosowania specyficznych materiałów źródłowych, tzw. targetów. W artykule przedstawiono wyniki pracy nad technologią wytwarzania targetów W-Re, Mo-Re oraz TiO2 z wolframem, neodymem i hafnem, stosując nowoczesną techniką metalurgii proszków, jaką jest spiekanie impulsowo plazmowe (SPS). Zastosowana metoda pozwoliła na uzyskanie targetów o wysokiej gęstości i małej porowatości. Testy wytwarzania cienkich warstw metodą magnetronową z zastosowaniem otrzymanych targetów potwierdziły, że mogą być one stosowane do rozpylania magnetronowego.

In order to fabricate thin functional films by a magneton method it is necessary to use specific starting materials, which are called targets. This paper presents results of a research work on fabrication of the W-Re, Mo-Re and TiO2 targets with tungsten, neodymium and hafnium, using a modern powder metallurgy technique — spark plasma sintering (SPS). The targets obtained by this method were of high density and low porosity. They were used during the tests with fabrication of thin films by a magnetron method confirming that they are suitable for magnetron sputtering.