Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: szybkość osadzania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Electroless deposition of Ni-P/nano-Al2O3 composite coatings on PET and carbon fibres substrates

Sałacińska A., Bieliński J., Zawadowska M., Kozera R., Boczkowska A., Kurzydłowski K. J.

Composites Theory and Practice

2012

R. 12, nr 2

86-92

This paper presents the results of studies on the electroless deposition of Ni-P/nano-Al2O3 composite coatings on pretreated polymeric bases (PET polyester Mylar A type) and on carbon fibres (24k fibres with 7 &m Tenax rovings). The Ni-P matrix was deposited from a solution consisting of NiSO4 0.1 M; NaH2PO2 0.2 M; glycine 0.21 M, with a pH = 7.5 8.5 and thiourea added as a stabilizer, as well as cetyltrimethylammonium bromide as a surfactant. Aluminium oxide C (DNC - Degussa, grains 13 nm) or A16 (Alcoa, grains 400 nm) were powders amounting to 10 30 g/l, with ultrasonic homogenization of the suspension. Under the experimental conditions applied, partial sedimentation of the A16 powder occurred, thus a furtherstudy on carbon fibres metallization was performed with the use of the DNC nanopowder. Deposition was performed in the temperature range 60 70oC, during 5 60 minutes, while the bases rotated at 1 rpm and the suspension was agitated with a stirrer. The composition of the deposited layers was determined by chemical methods and their surface morphology was investigated using SEM. A procedure for the preparation of the PET substrates for the tests was set out to obtain good adhesion of the Ni-P layers. Under the applied conditions, Ni-P/Al2O3 layers of a thickness within 130 720 nm, aluminium oxide content up to 25% by weight, and 2 4% phosphorus by weight were obtained.

W pracy przedstawiono wyniki badań nad bezprądowym osadzaniem warstw kompozytowych Ni-P/Al.2O3 na podłożach polimerowych typu Mylar (poliester PET) oraz na włóknach węglowych (wiązki 24k włókien 7 žm Tenax). Osnowa Ni-P osadzana była z roztworu NiSO4 0,1 M; NaH2PO2 0,2 M; glicyna 0,21 M, o pH = 7,5÷8,5 z dodatkiem tiomocznika jako stabilizatora oraz bromku cetylotrimetyloamoniowego jako surfaktanta. Dodawano proszków tlenku glinu Aluminiumoxide C (DNC - Degussa, ziarna 13 nm) lub A16 (Alcoa, ziarna 400 nm) w ilości 10÷30 g/l, z ultradźwiękową homogenizacją zawiesiny. W zastosowanych warunkach doświadczeń stwierdzono częściową sedymentację proszku A16, stąd dalsze badania nad metalizacją włókien węglowych prowadzono z nanoproszkiem DNC. Osadzanie prowadzono w zakresie temperatur 60÷70oC, w czasie od 5 do 60 minut, podłoża obracały się z szybkością 1 obr/min, a zawiesina mieszana była mieszadłem magnetycznym. Określano chemicznie skład osadzanych warstw oraz morfologię ich powierzchni za pomocą SEM. W próbach z podłożami PET ustalono procedurę przygotowania tego materiału dla uzyskania dobrej adhezji warstw Ni-P. W zastosowanych warunkach osadzone bezprądowo warstwy kompozytowe Ni-P/Al2O3 o grubości 130÷720 nm zawierały do 25% mas tlenku glinu oraz 2÷4%mas fosforu.

Studying of kinetic growth of organic thin films

Weszka J. P., Jarka P., Pakuła D., Dobrzański L. A., Domański M., Jurusik J.

Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering

2009

Vol. 35, nr 1

29-36

Purpose: of this paper: Studying of growth kinetic of organic thin film prepared by vacuum thermal evaporation technology. Design/methodology/approach: Applying of quartz crystal microbalance to thickness control of organic thin films deposition process. Findings: Results of this issue suggesting that the kinetics of organic thin films is depending of current flowing through the crucible (crucible temperature). Research limitations/implications: Kinetics of vacuum evaporation of thin film is different from that of inorganic thin films during the growth process. Practical implications: The means of connect the quartz crystal microbalance MSV 1843/AB with vacuum chamber, function and means of thickness and deposition rate measuring has been described. This scientific paper include also description of researching results of kinetics of organic and metallic thin film evaporation process by MSV 1843/AB quartz crystal microbalance and verification these results by comparing them with results from other measuring techniques. Originality/value: Controlling thickness of thermally evaporated organic thin film during the film growth process.

Otrzymywanie elektrolitycznych stopów niklu z molibdenem

Niedbała J., Wykpis K., Budniok A., Łągiewka E.

Archiwum Nauki o Materiałach

2002

T. 23, nr 2

123-136

W pracy otrzymywano stopy Ni-Mo z kąpieli cytrynianowej w warunkach galwanostatycznych oraz w warunkach impulsu prądowego z symetryczną pauzą prądową. Zbadano wpływ stosunku stężeń jonów składników stopu w kąpieli oraz wpływ pH na szybkość osadzania i skład chemiczny stopu. Stwierdzono, że w warunkach galwanostatycznych (j=2,5-300 mA/cm kwadratowy) otrzymuje się stopy zawierające 5,2-30,5% Mo. Badania składu chemicznego wykonano metodą fluorescencji rentgenowskiej. Stwierdzono, że w warunkach impulsu prądowego z symetryczną pauzą prądową w zależności od częstotliwości otrzymano stopy o zawartości molibdenu 21,1-29,7%. Ponadto stwierdzono, że szybkości procesu elektroosadzania stopu Ni-Mo w warunkach galwanostatycznych oraz w warunkach impulsu prądowego z symetryczną pauzą prądową, są zbliżone. Wykazano, że w warunkach impulsu prądowego z symetryczną pauzą prądową uzyskuje się warstwy o nieco większej grubości i z większą wydajnością w porównaniu z warstwami otrzymanymi w warunkach galwanostatycznych.

Ni-Mo alloys have been electrodeposited from a citrate bath under galvanostatic and pulse current with symmetric current pause conditions. The influence of the ratio of alloy component ion concentrations in the bath and pH on the rate of electrodeposition and the chemical composition of Ni-Mo alloys has been investigated. It was found that Ni-Mo alloys electrodeposited under galvanostatic conditions (j=2.5-300 mA/square cm) contain 5,2-30,5% Mo. However, Ni-Mo alloys obtained by pulse current method contain 21,1-29,7% Mo, depending on frequency of the pulses. The values of the rate of Ni-Mo electrodeposition in galvanostatic and pulse current conditions are similar. It is shown that in the case of pulse current with the symmetric current pause method, the slightly thicker Ni-Mo layers with higher yield are obtained in comparison with Ni-Mo layers electrodeposited by the galvanostatic method.