Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2005

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: supersieć TiN/CrN

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wpływ materiału przekładki na odporność na zarysowanie supersieci TiN/CrN

Wrzesińska H., Małyska K., Rymuza Z., Ratajczyk Ł.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2005

Vol. 46, nr 2-3

10-13

Przedstawiono wyniki testu nanozarysowania wykonanego dla supersieci TiN/CrN nałożonej na nanokryształ Si(100), pokryrty trzema różnymi warstwami: Si₃N₄ (PECVD), SiO₂ t (termiczny) i SiO₂p (PECVD) o grubości 200 nm. Najmniejszą głębokość zarysowania uzyskano dla podłoża Si/Si₃N₄. Te podłoża będą najlepsze dla przyszłych zastosowań supersieci TiN/CrN w ruchomych, ślizgowych skojarzeniach mikroelementów.

In this paper we present the results of nanoscratch tests of the TiN/ /CrN superlattice deposited on the single-crystal Si(100) face covered by three different films, namely Si₃N₄ (PECVD), SiO₂ t (thermal oxide) and SiO₂ p (PECVD), 200 nm thick. We obtained the smallest scratch depth for Si/Si₃N₄ substrate. This substrate seems to be the best solution for the future applications of the TiN/ CrN superlattice in sliding contacts of microelements.