Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Dudek M.

1 2006

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: struktura warstw ITO

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Struktura i właściwości warstw ITO wytwarzanych metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego

Dudek M.

Inżynieria Materiałowa

2006

Vol. 27, nr 5

935-938

Badania nad domieszkowanym cyną tlenkiem indu (ITO) są od wielu lat stymulowane potrzebą równoległego optymalizowania elektrycznych, optycznych i mechanicznych własności, jak również nowym wyzwaniem związanym z osadzaniem warstw na elastycznych plastikowych podłożach. W prezentowanej pracy systematycznie badano warstwy ITO osadzane metodą reaktywnego rozpylania z targetu będącego stopem indu i cyny. Zostało pokazane, że dodatkowa polaryzacja podłoża pozwala na efektywną kontrole poziomu naprężeń jak również struktury krystalicznej i kompozycji. Wolne od naprężeń warstwy posiadają wysoką transmitancje (>80%) i przewodnictwo (2 x 103 S/cm) były osadzone przy umiarkowanym bombardowaniem jonów. Wywołana jonami zmiana współczynnika załamania, współczynnika pochłaniania i ich wskroś profilu została ujawniona przy użyciu ellipsometru i spektrofotometru. Dyskutuje możliwy mechanizm wpływu bombardowania jonów i innych odnoszących się do plazmy zjawisk na modyfikacje własności warstw.

Research on tin doped indium oxide (ITO) has for many years been stimulated by the need to simultaneously optimize the electrical, optical and mechanical properties, and by new challenges related to the deposition on flexible plastic substrates. In the present work, I systematically studied ITO films deposited by reactive sputtering from an indium-tin alloy target. I found that additional substrate biasing allow one to effectively control the level of stress as well as its crystalline structure and composition. Stress-free films possessing high transparency (>80%) and conductivity (2 x 103 S/cm) were deposited under moderate ion bombardment. Ion-induced changes in the refractive index, extinction coefficient, and their depth profiles were revealed by spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry. I discuss possible mechanisms related to the modification of film properties due to ion bombardment and other plasma-based phenomena.