Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: sterownik procesu

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

LabVIEW controller for storage results and control parameters of low thickness antireflection coatings deposition processes

Marszałek K., Małek A., Winkowski P., Woźny K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2016

Vol. 57, nr 2

31--34

W artykule przedstawiono system do kontroli, wizualizacji i zapisu danych procesów PVD. System został zaprojektowany w oparciu o środowisko LabVIEW i został z powodzeniem zastosowany w przemyśle optycznym. Wizualizacja jest bardzo intuicyjna dla operatora daje łatwą możliwość kontroli wszystkich parametrów procesu. Zapisane dane pomagają w polepszeniu jakości powłok i dają możliwość analizy procesów. Niski koszt wprowadzenie systemu czyni go również bardzo użytecznym narzędziem do modyfikacji starszego typu napylarek próżniowych oraz daje szansę stopniowej jego rozbudowy.

System for control, visualization and storage of PVD processes data is presented in this paper. The system has been designed in LabVIEW environment and has been implemented successfully in optical industry. Visualization is very intuitive for the operator and gives easy control of all important process data. Stored process data help improve the quality of the coatings and provide the ability to analyze processes. Low cost of implementation of the system also makes it a very useful tool for modifying older types of vacuum coaters and gives a possibility of gradual further expansion of systems.

System sterowania procesem nanoszenia wielowarstwowych powłok metalicznych metodą jonowego rozpylania

Marszałek K. W., Stępień J., Mania R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2013

Vol. 54, nr 11

79-82

W artykule przedstawiono autorski system sterowania urządzeniem próżniowym, przeznaczonym do nanoszenia wielowarstwowych powłok metalicznych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości. System kontroluje prędkość obrotową uchwytu podłoży oraz dozuje poprzez zawory membranowe ilość gazu roboczego. Ponadto umożliwia rejestrację parametrów pracy wyrzutni magnetronowych oraz temperaturą i ciśnienie gazu. W drodze eksperymentu opracowano karty procesowe definiujące wszystkie niezbędne do przeprowadzenia procesu parametry. Pozwoliło to na stworzenie swoistej biblioteki procesów, upraszczającej obsługę umożliwiającej pełną automatyzację stanowiska. Oprogramowanie sterujące zrealizowano w oparciu o środowisko graficzne Lab VIEW, dzięki czemu panel operatorski jest prosty i intuicyjny, ułatwiając zarówno odtwarzanie zdefiniowanego procesu jak i opracowywaniu kolejnych jego modyfikacji.

Computer control system for puls MF (Mid Frequency) magnetron sputtering equipment dedicated for metallic multilayers deposition is presented in this paper. The rotation velocity of the sample holder and the gas inlet through membrane valves are the main parameters controlled by the system. Parameters of the magnetron gun power supply, sample temperature and technological gas pressure are registered. The process card which define all process parameters are collected for each dedicated process type. All cards are collected in a process cards library which permits for full automatization of all operations. Software was written in a graphical environment Lab VIEW. It cause very simply usage for operator (operator’s interface is easy to control) and the preparation of the processes modifications is not complicated.