Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: spektroskopia plazmy

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Rozpylanie dwuskładnikowych katod wyładowania jarzeniowego w tlenie

Wroński Z.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2009

Vol. 50, nr 9

76-78

Rozpylanie mosiężnej katody w wyładowaniu jarzeniowym w tlenie badano eksperymentalnie i modelowano metodą elektrodynamiki molekularnej. Szybkości ret [nm/s] trawienia katody zmierzone przy stałych parametrach wyładowania, gęstości prądu jd = 0,5 mA/cm2 i długości Lcf = 2 cm obszaru katodowego spadku potencjału, dla różnych zestawów gaz - katoda są następujące: ret (Ne→brass) = 1,68, ret(N₂ →brass) = 0,622, ret(O₂ →brass) = 0,202. Szybkość ret(O₂ →brass) jest proporcjonalna do gęstości mocy deponowania energii na katodzie przez bombardujące cząsteczki O₂ ⁺ i O₂. Stechiometria [Cu0.35 Zn0.20.45] warstwy powierzchniowej mosiężnej katody zmodyfikowanej plazmą O₂ liczona znanym programem TRIM, jest bliska stechiometrii mieszaniny tlenków CuO i ZnO formowanych na użytym mosiądzu. Utlenienie powierzchni katody, wtórne osadzanie się rozpylonych atomów na jej powierzchni są głównymi przyczynami małej wydajności rozpylania katody mosiężnej plazmą tlenową.

Cathode sputtering in the O2 brass glow discharge was studied experimentally and modelled by method of molecular electrodynamics. Rates ret [nm/s] of the cathode etching measured at justed discharge parameters, current density jd = 0.5 mA/cm² and length Lcf = 2 cm of the cathode voltage fall space, for various gas-cathode sets are as follows: ret(Ne→brass) = 1.68, ret(N₂ →brass) = 0.622, ret(O₂ →brass) = 0.202. Rate ret(O₂ →brass) was found to be proportional to power density of energy deposition by bombarding species, (O₂ ⁺ O₂),into brass cathode bulk. Stoichiometry [Cu0.35 Zn0.2 O0.45] of the surface layer modified by O₂ plasma, calculated with program TRIM, is close to the stoichiometry of the mixture of CuO and ZnO oxides produced on used brass. Cathode surface oxidation and redeposition of sputtered cathode atoms seem to be the main reason of low efficiency of brass sputtering by oxygen plasma.