PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 13

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  spektroskopia emisyjna
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available Badania starożytnych monet metodą spektroskopii emisyjnej ze wzbudzeniem laserowym
Skrzeczanowski W.
Prace Instytutu Elektrotechniki
|
2018
|
Z. 278
91--102
PL
W pracy opisano badania starożytnych monet wykonanych ze stopów srebra, przeprowadzone za pomocą spektroskopii emisyjnej ze wzbudzeniem laserowym. Wyniki prac pozwoliły określić względną zawartość pierwiastków w monetach i skład warstw na różnych głębokościach na przykładzie jednej z monet greckich. Przedstawiono wyniki statystycznej analizy czynnikowej widm LIBS starożytnych monet.
EN
LIBS applications in analysis of chemical composition of selected ancient coins are described in the paper. In the introduction a review of typical physical phenomena present in LIBS experiments is given, problems related to correct interpretation of LIBS emission spectra are shortly discussed. Next part of the paper is devoted to short description of experimental setup and its essential components. In the Chapter 3 works on determination of chemical composition of Greek and Roman coins are presented. Results of analysis of chemical composition of the coins using calibration LIBS approach with the aid of statistical multivariate factorial analysis are shown. For octodrachm a stratigraphy method was applied which revealed a complex structure of superficaial encrustations covering the coin surface. Summary includes author’s opinion on presented results and a short comment on problems related to quantitative LIBS measurements.
2
Content available Moduł optycznej diagnostyki plazmy stanowiska do badań technologii PVD
Przybylski J., Majcher A.
Problemy Eksploatacji
|
2013
|
nr 1
141--150
PL
Spektroskopia emisyjna plazmy pozwala na precyzyjny dobór składu chemicznego osadzanej powłoki i tym samym otrzymywanie warstw wierzchnich o zakładanym składzie. W artykule przedstawiono realizację modułu spektralnej analizy i diagnostyki plazmy w stanowisku badawczym procesów PVD. Umożliwia on prowadzenia badań związanych z modernizacją istniejących technologii lub opracowywanie nowych, wykorzystujących pętle regulacji z sygnałami spektroskopowymi. Przedstawiono dwa układy sterowania z wykorzystaniem optycznej diagnostyki plazmy. Pierwszym z nich jest sterowanie dozowaniem gazów technologicznych dla utrzymania zadanego stosunku dwóch sygnałów spektralnych w procesie azotowania jarzeniowego. W drugim układzie moduł analizy optycznej zastosowano do kontroli składu plazmy w procesach rozpylania magnetronowego. Opisano możliwości zastosowania modułu także w innych procesach plazmowych.
EN
Plasma emission spectroscopy allows for the precise selection of the chemical composition of the deposited coating to obtain the surface layers of the intended composition. The article presents the analysis and diagnostic module of a PVD process research stand. It allows conducting research related to the upgrading of existing technologies or developing new technologies, using control loops with spectroscopic signals. Two control systems using optical plasma diagnostics are presented. The first is the control of technological gases to maintain a specified ratio of two spectral signals in the plasma nitriding process. In the second, an optical analysis module is used for checking the composition of plasma in the magnetron sputtering process. The applicabilities of the other plasma processes are also described.
3
Optical emission spectroscopy investigation of the low-power multispark plasma actuator
Olszewski S., Bondarenko P., Kostenko S., Komada P.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2013
|
Vol. 54, nr 8
54-57
PL
Jedną z istotnych metod kontrolowania przepływu aerodynamicznego przy powierzchni jest oddziaływanie na przepływ pulsującej plazmy. Dla rzeczywistych urządzeń wyładowczych, stosowanych w tego rodzaju zagadnieniach bardzo ważne jest zrozumienie jakie tryby zachowania plazmy z ciśnieniem atmosferycznym dają maksymalny efekt przy minimalnym zużyciu energii. Praktyczny aspekt pracy stanowią wyniki postępów w pracach nad skalowalnym wysokonapięciowym źródłem zasilania do wytwarzania wieloiskrowych wyładowań o dużej długości całkowitej. Podstawowy aspekt pracy stanowią rezultaty badań właściwości emisji plazmy dla quasi-stacjonarnych wioeloiskrowych wyładowań w ciśnieniu atmosferycznym.
EN
One of the important ways of controlling aerodynamic flow near the surface there is an impact to the flow of pulsating plasma. For a real discharge devices used in such problems it is very important to understand what modes maintain plasma of atmospheric pressure give maximum effect with minimum energy consumption. In the applied aspect of this work presents the results of the development of a scalable high-voltage power source to generate a multi-spark discharge with large total length. A fundamental aspect of this work presents the results of research of the plasma emission properties of quasi-stationary multi-spark discharge in atmospheric pressure.
4
Content available Spektroskopia emisyjna plazmy zasilanej impulsowo w trakcie magnetronowego rozpylania stopu Zn i Bi
Ziaja J., Ozimek M.
Prace Instytutu Elektrotechniki
|
2012
|
Z. 259
51--52
PL
Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy technologicznymi parametrami procesu rozpylania – moc wydzielona na materiale rozpylanym, odległość target – podłoże, ciśnienie gazu roboczego, a składem chemicznym magnetronowej plazmy zasilanej impulsowo. W badaniach zastosowano metaliczny stop 0,90Zn-0,10Bi, o średnicy 50 mm. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz w atmosferze będącej mieszaną tych gazów. W mieszaninie ciśnienie parcjalne tlenu zmieniano w zakresie 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optyczne widma emisyjne zmierzono w zakresie długości fal od 200-800 nm. Stwierdzono, że dla różnych warunków pracy magnetronu widma emisyjne różnią się od standardowych. Wykazano, iż wartość intensywności Ibi oraz IZn wzrasta wraz ze wzrostem mocy dostarczanej do materiału rozpylanego i maleje w funkcji odległości od niego. Intensywności są również funkcją ciśnienia parcjalnego tlenu. Zmieniając stosunek IZn/IBi można w sposób kontrolowany otrzymywać warstwy o zadanym składzie chemicznym, co jest bardzo istotnym elementem z technologicznego punktu widzenia.
EN
This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process – power dissipated in the target, the distance target – substrate, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn – 0.10Bi target with a diameter of 50 mm was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of both gases mixture. In the mixture of both gases the partial pressure of oxygen was changed in the range 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optical emission spectra were measured in 200 – 800 nm wavelength range. The intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc for selected wavelengths (λBi = 306.77 nm and λZn = 636.23 nm) was studied. It was stated that for various conditions of magnetron operation the emission spectra are different from the standard ones. It was shown that the intensity of IBi and IZn lines increases along with the increase of power supplied to the target and decreases in the distance function from it. It was also proven that the intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc depends on the oxygen partial pressure. The relative lines intensities IBi and IZn are a function decreasing along with the increase in oxygen concentration.
5
Content available remote Optical diagnostic of electrical discharges for technology applications
Czech T., Sobczyk A., Jaworek A.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 7
98-100
EN
Plasma technology is one of the modern technologies which could improve traditional processes or can be involved in novel innovative solutions resulting in new market products. Technological plasma today requires better control of the manufacturing processes to obtain high quality products. In the paper, electrically generated plasma has been investigated using optical emission spectroscopy, which is a non-invasive technique for gaining information about main plasma parameters. The spectroscopy method allows better understanding of the discharge processes.
PL
Technologie plazmowe należą do nowoczesnych technologii produkcji, które umożliwiają usprawnienie konwencjonalnych metod wytwarzania lub mogą prowadzić do powstania nowych produktów rynkowych. Współcześnie plazma technologiczna używana do procesów produkcyjnych wymaga lepszej diagnostyki jej parametrów. W artykule zastosowano metody spektroskopii emisyjnej do badania parametrów plazmy generowanej elektrycznie. Zastosowana metoda spektroskopowa pozwala na lepsze zrozumienie procesów zachodzących w plazmie.
6
Content available remote Electrical-discharge synthesis of carbon fibers in hydrocarbon atmosphere
Sobczyk A., Jaworek A.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 7
101-103
EN
A method of carbon fiber synthesis by low-current electrical-discharge plasma in hydrocarbon vapours was presented in the paper. The process of carbon fibers synthesis was carried out in cyclohexane and argon mixture, at normal pressure. It was found that carbon fibers were synthesized in arc discharge for the current in the range from 1.6 to 3 milliamps. The diameter of the fiber varied from 20 to 120 ěm, depending on synthesis parameters. The growth rate of the fiber was about 0.25 mm/s.
PL
W pracy przedstawiono metodę syntezy włókien węglowych w łuku nisko-prądowym w atmosferze węglowodorów. Proces syntezy zachodził w mieszance argonu z parami cykloheksanu pod ciśnieniem normalnym. Zaobserwowano wzrost włókna węglowego podczas wyładowania łukowego dla prądów od 1.6 mA do 3 mA. Średnica włókna wynosiła od 20 do 120 um w zależności od parametrów syntezy. Maksymalna prędkość wzrostu wynosiła ok. 0.25 mm/s
7
Content available Badania dzieł sztuki prowadzone w IOE WAT za pomocą spektroskopii emisyjnej wzbudzanej laserem
Skrzeczanowski W.
Prace Instytutu Elektrotechniki
|
2008
|
Z. 234
217-233
PL
Opisano zastosowanie spektroskopii emisyjnej wzbudzanej laserem (LIBS) w badaniach składu i struktury dzieł sztuki. Opisano istotne zjawiska fizyczne związane z LIBS, takie jak ewolucja czasowa promieniowania i poszerzenie linii widmowych. Omówiono charakterystyki eksploatacyjne wyposażenia badawczego. Przedstawiono rezultaty badań obrazów, rzeźb, zabytkowych militariów i starożytnych narzędzi uzyskane za pomocą różnych zestawów badawczych oraz interpretację uzyskanych wyników.
EN
LIBS applications in analysis of chemical composition of selected museum objects and artworks are described in the paper. In the introduction a review of typical physical phenomena present in LIBS experiments is given, problems related to correct interpretation of LIBS emission spectra are shortly discussed, and a brief comparison of various experimental techniques used in artwork diagnostics is also shown. Next part of the paper is devoted to short description of experimental setup and its essential components. In the Chapter 3 works on determination of pigments used in selected paintings are presented, results of analysis of chemical composition of mineral sculptures and ancient tools made of bones are shown, qualitative measurements of antique textures and trappings clasp are discussed and results of first attempts to quantitative measurements of metallic objects are shortly described. Summary includes authors' opinion on presented results and a short comment on problems related to quantitative LIBS measurements.
8
Content available System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD
Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2008
|
R. 54, nr 3
87-90
PL
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
EN
Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process.
9
Historia atomowej analizy spektralnej. Cz. III. Rozwój analizy ilościowej
Godlewska-Żyłkiewicz B.
Analityka : nauka i praktyka
|
2007
|
nr 4
36-38
10
Content available remote Dust components identification by emission spectroscopy in back discharge
Czech T., Krupa A., Lackowski M., Rajch E.
Environment Protection Engineering
|
2006
|
Vol. 32, nr 3
55-62
EN
The results of emission spectroscopic analysis of back discharge generated in the point-to-plane electrode covered with fly ash layer of high resistivity in ambient air were presented. The visual forms of the discharge were recorded with digital camera referred to the current-voltage characteristics and optical emission spectra. The interest in these studies was motivated by detrimental effects which this type of discharge causes in the electrostatic precipitators. The studies have shown that the spectral lines omitted the back discharge are unique and dependent on discharge current. The spectral lines could be used for investigation of dust layer composition.
PL
Wyładowanie wsteczne powstaje na elektrodzie biernej w obecności warstwy dielektrycznej o dużej rezystywności. Przedstawiono wyniki badań wyładowania wstecznego dla elektrody uziemionej, pokrytej warstwą pyłu z elektrofiltru. Strimery w wyładowaniu wstecznym rozwijają się pomiędzy elektrodą ulotową a kraterem powstałym w warstwie dielektrycznej. Gdy zwiększa się napięcie, wyładowanie strimerowe może przejść w wyładowanie łukowe. Cechą wyładowania wstecznego do warstwy pyłu w powietrzu jest pojawienie się intensywnego pasma molekularnego azotu (N2). Oprócz głównych pasm azotu zidentyfikowano również pasma NO i NO2 o mniejszej intensywności. Obserwowano również linie atomowe pierwiastków, np. Co, Fe, Mo, Ni, Ti, oraz ich tlenków. W wyniku wyładowania metale z pyłu osadzonego na elektrodzie mogą być wtórnie emitowane do atmosfery.
11
Content available remote The corrosion properties of implanted materials with various protective coatings
Zykova A., Lukyanchenko V., Safonov V.
Problemy Eksploatacji
|
2005
|
nr 2
123--134
EN
For purposes of orthopaedic and trauma surgery operations various stems, spokes, screws, pins made of pure metal and alloys are widely applied. As a result of metal materials using, the problems of patient organism protection from deleterious effects of metallogenic and electrochemical reactions, metal toxicosis - complications, connected with metal ion effect on organism, arise. The corrosion resistance characteristic of implanted materials play the most important role because of their ability to prevent from the detrimental elements penetration to both surrounded bone tissue and patient internal organs. The present study is devoted to realization of the comparative analysis of corrosion properties of modern implanted materials and coatings in simulated body fluid and their long-term behaviour in animate organism.
PL
Dla celów operacji w chirurgii ortopedycznej i urazowej szeroko stosowane są różne trzony, śruby, szpilki wykonane z czystego metalu i stopów. W wyniku zastosowania materiałów wykonanych z metalu pojawiają się problemy ochrony organizmu pacjenta przed szkodliwym wpływem reakcji metalogenicznych i elektrochemicznych oraz komplikacje związane z zatruciem metalem oraz wpływem jonów metalu na organizm. Właściwości odporności korozyjnej wszczepianych materiałów odgrywają najważniejszą rolę ze względu na ich zdolność zapobiegania przenikaniu szkodliwych składników zarówno do tkanki kostnej, jak i organów wewnętrznych pacjenta. Zaprezentowane badania poświęcone są przeprowadzeniu analizy porównawczej właściwości korozyjnych nowoczesnych materiałów wszczepianych oraz powłok w imitowanej cieczy ustrojowej oraz ich długoterminowego zachowania się w żywym organizmie.
12
Content available remote Badanie zmian zawartości metali w wodzie uzdatnianej w Wodociągach Warszawskich metodą ICP-AES
Stankiewicz A., Garboś S., Życiński D., Wichrowska B.
Instal
|
2001
|
nr 11
14--18
PL
Przeprowadzono badania zmian zawartości metali w wodzie surowej i uzdatnianej przez Wodociągi Warszawskie: Północny, Centralny i Praski. Badania wykonywano w miesiącach: maj, czerwiec, sierpień i wrzesień wykorzystując do oznaczeń metodę spektrometrii emisyjnej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-AES). Otrzymane wyniki wskazują na znaczne różnice w zawartości metali w wodzie surowej w zależności od źródła jej pochodzenia, szczególnie dotyczyło to żelaza, manganu, wapnia i sodu. Stosowane w SUW technologie uzdatniania wody w większości przypadków pozwalają na redukcję ich stężeń nawet do dziewięćdziesięciu dziewięciu procent pierwotnej zawartości. W żadnej z uzdatnionych wód nie wykryto ponadnormatywnych stężeń oznaczanych metali.
13
Content available remote Badania fizykochemicznych podstaw regulacji procesu azotowania jarzeniowego z wykorzystaniem diagnostyki plazmy
Smolik J., Walkowicz J., Miernik K., Szubrycht T.
Problemy Eksploatacji
|
2000
|
nr 2
335-348
PL
W artykule zostały przedstawione widma emisyjne oraz widma masowe plazmy wyładowania jarzeniowego zarejestrowane dla trzech procesów azotowania różniących się składem atmosfery azotującej i parametrami prądowo-napięciowymi wyładowania. W celu identyfikacji uzyskanych struktur warstw azotowanych wykonano badania dyfrakcyjne i metalograficzne. Na podstawie zarejestrowanych widm oraz po uwzględnieniu wy­ników wykonanych badań strukturalnych dla utworzonych warstw azotowanych dokonana została próba oceny, które ze składników plazmy istotnie wpływają na strukturę tworzonej warstwy azotowanej. Analiza widm masowych pozwoliła określić decydujący wpływ azotu atomowego na intensywność procesu azotowania natomiast analiza widm emisyjnych pozwoliła określić mechanizm jego wytwarzania w badanych procesach.
EN
The paper presents the mass and emission spectra of the glow discharge plasma recorded for three different processes of ion nitriding. The structures of nitrided layers were investigated with the used of X-ray diffraction and optical metallography. The paper's authors revealed the correlation between parameters of the glow discharge plasma, observed by spectroscopic methods, and kinetics of the nitriding process determined by the structures of nitrided layers. On the basis of the obtained results plasma components, decisive for forming of individual structures of the nitrided layer, during nitriding process were assigned.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.