Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  spektrometr SIMS
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote SIMS study of low energy implantation
EN
The paper presents the results of direct, low energy implantation investigations, using the SIMS apparatus. The retained dose for the Cu and Ag samples as a function of irradiation dose of the Cs+and K+ ions, as a primary beam was measured. From such relation the range profiles of implanted ions were calculated. The comparisons with the results of the computer simulation and analytical theory are also presented.
PL
W pracy zostały przedstawione wyniki badań dotyczące implantacji niskoenegetycznej przeprowadzone przy użyciu spektrometru mas jonów wtórnych. Dokonane zostały pomiary zależności dawki jonów Cs+ lub K+ zaimplantowanych do tarczy Cu i Ag od dozy jonów pierwotnych (Cs+lub K+) bombardujących powierzchnie próbki. Na podstawie otrzymanych krzywych nasycenia sporządzono profile głębokościowe zaimplantowanych jonów. Porównano również wyniki otrzymane z symulacji komputerowej z danymi uzyskanymi w oparciu o model analityczny.
2
Content available remote Negative ion source for SIMS application
EN
The paper presents a modification of the thermal emission Cs+ ion source used for SIMS spectroscopy purposes. The source was modified in such a way that both the positive ion beam (in thermal emission mode), and the negative one (in sputter mode) may be emitted by the source. The mass spectra of both beams are shown and analysed. Also comparison of the secondary ion mass spectra obtained for negative and positive primary ion beams is presented.
PL
Praca prezentuje modyfikację termoemisyjnego źródła jonów wykorzystywanego w spektrometrze SIMS. Konstrukcja termoemisyjnego źródła jonów dodatnich została zmieniona, tak by mogło ono pracować jako źródło jonów ujemnych, przy wykorzystaniu zjawiska rozpylania. Zaprezentowane i omówione zostały widma mas dla wiązki jonów dodatnich i ujemnych. Porównano także widma mas jonów wtórnych dla tarcz bombardowanych wiązką jonów dodatnich i ujemnych.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.