The thermo-evolution of the interface obtained by room temperature (RT) deposition of 8.7 ML Ni onto an Ag/Si(111)-√3×√3 surface has been studied with the use of scanning tunneling microscopy. Annealing the surface within RT- 573 K temperature range leads to the increase in surface roughness which is followed by its drop upon annealing at 673 K. The comparison of the images presented here with those published for both submonolayer Ni and 4.2 ML Ni indicates coverage-dependent features.
PL
Ewolucja termiczna interfejsu otrzymanego w wyniku osadzenia 8.7 ML Ni na powierzchni Ag/Si(111)-√3×√3 w temperaturze pokojowej (RT) badana była przy użyciu skaningowej mikroskopii tunelowej. Wygrzewanie powierzchni w zakresie temperatur RT- 573 K prowadzi do wzrostu szorstkości powierzchni, po czym w temperaturze 673 K następuje jej spadek. Porównanie obrazów prezentowanych w niniejszej pracy z obrazami opublikowanymi dla pokryć Ni niższych niż 1 monowarstwa oraz dla pokrycia 4.2 ML wskazuje na występowanie cechy zależnych od pokryć.
Omawiana w niniejszym artykule skaningowa mikroskopia tunelowa była pierwszą metodą pozwalającą na badanie powierzchni z rozdzielczością mogącą osiągać poziom submolekularny. Taka precyzja daje możliwość monitorowania zjawisk zachodzących na granicy faz, które mają wielkie znaczenie dla rozwijającej się nanotechnologii oraz dla ulepszania obecnych procesów przemysłowych.
EN
Scanning Tunneling Microscopy that is discussed in the present article, is the only method enabling to probe the surfaces with resolution that may achieve submolecular level. Such precision gives the opportunity for monitoring of phenomena that occur at the phase boundary, which are of great importance for developing nanotechnology and for improvement of current industrial processes.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.