Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 12

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  siarczek niklu
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
In this work, we have prepared new materials of the nickel sulfide thin films by using the spray pyrolysis technique for promising co-catalyst to improve the photocatalytic performance or superconductivity. The effect of deposition temperature (523, 573 and 623 K) on structural, optical and electrical properties was investigated. The XRD diffraction shows that the prepared nickel sulfide at 523, 573 and 623 K having an orthorhombic, hexagonal and hexagonal structure, which were Ni3S2, Ni17S18 and NiS2, respectively. The minimum value of crystallite size (45,9 nm) was measured of deposited film at 573K. The thin films prepared at 523 and 573 K have an average transmittance is about 20 %. The prepared Ni1S2 thin film at T=623 K has the lowest calculated optical band gap and Urbach energy. The Ni1S2 thin film also has the best calculated of the refractive index and the extinction coefficient. The FTIR spectrums of the nickel sulfide have various bands such as Ni-S, C-H, O-H, N–H and C-S. The maximum electrical conductivity is 4,29x105 (Ω.cm)-1 was obtained at 573K of the Ni17S18. The nickel sulfide thin films sprayed at 573K have good structural, optical and electrical properties.
3
Content available remote Samoistne pękanie szkła hartowanego na elewacji
PL
W artykule przedstawiono badania pozwalające potwierdzić lub wykluczyć obecność inkluzji siarczku niklu w szkle hartowanym jako przyczyny samoistnego pękania tego szkła. Wtrącenia badano z wykorzystaniem próbek pobranych z szyb hartowanych, które uległy destrukcji po kilku latach od montażu na elewacjach budynków bez ingerencji zewnętrznych czynników mechanicznych. Przeprowadzone badania metodą mikroskopii skaningowej SEM wykazały w badanych mikroobszarach, pobranych z miejsc, w których zainicjowane zostało pękanie tafli szkła, obecność dużej zawartości S (17,5 – 26,9%,) oraz Ni (37,9 – 45,1%,), a także Fe (0,3 – 0,9%). Świadczy to o obecności siarczku niklu w szkle i pozwala na wyjaśnienie przyczyny oraz mechanizmu spontanicznego zniszczenia szyb.
EN
The article presents research to confirm or exclude the presence of nickel sulphide inclusions in tempered glass as the cause of spontaneous glass breakage. Inclusions analyzed using samples taken from tempered glass, which were destroyed a few years after installation on facades of buildings without the interference of external mechanical influences. As a result of SEM microscopy analysis in the tested microareas inclusions has been shown a high content of elements S (from 17.5% to 26.9%); Ni (from 37.9% to 45.1%), and Fe (0.3 – 0.9%), which proves the presence of nickel sulfide in the glass. This explains the cause and the mechanism of spontaneous destruction of the glass.
5
Content available Reduction Kinetics Of NiS Sulphide
EN
Reduction mechanism and kinetics of NiS nickel sulphide obtained during the process of nickel sulphidation, have been studied as a function of temperature (723-873 K). It has been found that the reduction process follows linear kinetics with activation energy of 103 kJ/mol. It is important to note that during nickel sulphidation and after the reduction of nickel sulphide, the product sample shows highly developed surface, creating thus the potential possibilities to be applied in heterogeneous catalysis.
PL
Przeprowadzono badania mechanizmu oraz kinetyki redukcji siarczku niklu, NiS, w funkcji temperatury (723-873K). Siarczek ten został uzyskany w procesie siarkowania czystego metalu. Stwierdzono, że proces redukcji zachodzi zgodnie z prawem liniowym, a jego energia aktywacji wynosi 103 kJ/mol. Należy podkreślić, że w wyniku siarkowania niklu oraz redukcji siarczku, otrzymany został materiał charakteryzujący się bardzo rozwiniętą powierzchnią właściwą, co stwarza potencjalne możliwości jego wykorzystania do celów katalitycznych.
7
Content available remote Samoistne pękanie elewacji szklanych
EN
The discussion of self-cracking of the complex hardened glass pond filled with argon is presented. Glass of the SunGuard HS Super Neutral 70 was cracking due to the release of nickel sulphide as an effect of sunlight action. Nickel sulphide is realesed during the process of glass hardening - only the process "heat soak test" neutralizes the nickel sulphide particles.
8
Content available remote Electrochemical dissolution of synthetic heazlewoodite (Ni3S2)
EN
The aim of the study was to examine the dissolution kinetics of synthetic heazlewoodite and the formation of elemental sulfur by electrochemical methods. Anodic polarisation curves, potentiostatic measurements and cyclic voltammetry were carried out in 1 N sulfuric acid at temperature 25°C. The anodic dissolution of heazlewoodite procceds in two stages. At potentials below 600 mV vs. SCE heazlewoodite is only converted to higher sulfides such as millerite NiS. At higher potential the reaction products dissolve forming first other sulfides and elemental sulfur and later other sulfides, elemental sulfur and sulfate. The percentage of sulfides in the reaction products was high even at high potentials. The formation of elemental sulfur was not seen to hinder dissolution of the sulfide. The part of sulfur oxidized to sulfate increased with increasing potential. Up to 900 mV only elemental sulfur was formed, at 1000 mV 10% of sulfur was oxidized to sulfate and at 1600 mV 90% of the sulfur was sulfate.
PL
Przedmiotem pracy były badania kinetyki roztwarzania syntetycznego hezelwudytu oraz tworzenia się siarki w tym procesie, z zastosowanie metod elektrochemicznych. Badania prowadzone były w 1 N kwasie siarkowym, w temperaturze 25°C, metodami: potencjostatyczną, krzywych polaryzacyjnych oraz woltamperometrii cyklicznej. Roztwarzanie anodowe hezelwudytu przebiego dwustopniowo. Przy potencjałach poniżej 600 mV hezelwudyt przechodzi w siarczki o wyższej zawartości siarki, na przykład mileryt (NiS). Przy wyższych potencjałach hezelwudyt ulega roztwarzaniu, tworząc siarczki o wyższej zawartości siarki i siarkę, a następnie siarczki o wyższej zawartości siarki, siarkę i siarczany, przy czym przy wyższych potencjałach obserwowano tworzenie się większej ilości siarczków o wyższej zawartości siarki. Nie zaobserwowano negatywnego wpływu tworzenia się siarki elementarnej na przebieg procesu roztwarzania. Ilość tworzących się siarczanów wzrasta wraz ze wzrostem potencjału. Poniżej potencjału 900 mV tworzy się siarka elementarna, przy potencjale 1000 mV 10% siarki ulega utlenieniu do siarczanów, a przy potencjale 1600 mV do siarczanów ulega utlenieniu aż 90% siarki.
10
Content available remote Przyczyny samoistnego pękania szkła hartowanego
PL
Przez wiele lat obserwowano, że hartowane szkło niekiedy ulega spontanicznemu spękaniu. Badania pokazały, że jedną z głównych przyczyn są wtrącenia NiS (siarczku niklu). Na dzień dzisiejszy jedyną skuteczną metodą eliminacji szkła zawierającego wtrącenia NiS jest wykonanie Heat Soak Test (HST).
PL
Coraz bardziej popularne szkło półhartowane nie ma w Polsce na dzień dzisiejszy uwarunkowań prawnych. W najbliższym czasie ukaże się norma PN EN 1863-1 która jest w trakcie ustanawiania. Postępujący wzrost nowoczesnego budownictwa wymusza jednak na producentach rozwój tej dziedziny przetwórstwa, tym bardziej że szkło wzmacniane termicznie (półhartowane) ma szereg zalet przewyższających szkło normalne odprężone a jest tańsze od szkła hartowanego, a szczególnie szkła hartowanego poddawanego testowi termicznemu na zawartość wtrąceń NiS.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.