Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Rudy i Metale Nieżelazne

1 2012

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: roztwór kwaśny

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Elektrochemiczne osadzanie cienkich warstw CDS z roztworów kwaśnych

Duda M., Kowalik R., Mech K., Żabiński P.

Rudy i Metale Nieżelazne

2012

R. 57, nr 9

586-590

W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących procesu osadzania siarczku kadmu metodą elektrochemiczną na podkładkach miedzianych. Celem pomiarów było dobranie odpowiednich parametrów procesu osadzania półprzewodnika. Doświadczenie przeprowadzono używając roztworu chlorku kadmu oraz tiosiarczanu sodu o pH = 3. Proces elektrolizy przeprowadzano w warunkach potencjostatycznych oraz stosując metodę impulsową. Pierwszy sposób nie przyniósł oczekiwanich rezultatów, natomiast zastosowanie drugiej metody zakończyło się powodzeniem. Uzyskany osad poddano analizie pierwiastkowej i fazowej, które potwierdziły obecność siarczku kadmu na podkładce miedzianej. Dodatkowo przeprowadzono obserwacje morfologii uzyskanych osadów za pomocą elektronowego mikroskopu skaningowego.

This article presents results of research concerning deposition of cadmium sulfide on copper by an electrochemical method. This study was primarily designed to determine proper parameters of deposition the semiconductor. Experiment was carried out using acid aqueous solutions containing cadmium chloride and sodium thiosulfate with pH = 3. Process of electrolysis was carried out by a potentiostatic and pulse methods. The first one hasn't provided expected results whereas second one has terminated with success. The deposited coatings were investigated by phase and elementary analysis which confirmed presence of cadmium sulfide on copper. The morphology of the CdS thin films were analyzed using scanning electron microscopy.