Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 2003

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: remote plasma CVD

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Cienkie warstwy węglikoazotku krzemu wytwarzane z prekursora krzemoorganicznego w selektywnym procesie plazmowym CVD

Błaszczyk I., Wróbel A.M.

Inżynieria Materiałowa

2003

R. XXIV, nr 6

431-434

Amorficzne uwodornione cienkie warstwy węglikoazotku krzemu były wytwarzane z tetrametylodisilazanu w selektywnym procesie plazmowym CVD, w którym do generowania plazmy stosowano mieszaninę wodór-azot. Przedstawiono rezultaty badań nad wpływem stężenia azotu w zasilającej plazmę mieszaninie wodór-azot na strukturę chemiczną, morfologię powierzchni i właściwości warstwy (gęstość, twardość, moduł sprężystości, współczynnik tarcia).

Amorphous hydrogenated silicon carbonitride thin films were produced from tetramethyldisilazane by remote plasma chemical vapor deposition using the hydrogen-nitrogen mixture for plasma generation. The results of studies of the effect of the nitrogen content in the plasma feeding hydrogen-nitrogen mixture on chemical structure, surface morphology, and properties (density, hardness, elastic modulus, friction coefficient) of resulting film is reported.