Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  recombination velocity
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
The viability of epitaxial regrowth of non-intentionally doped InP to passivate lateral mesa surfaces of InGaAs photodiodes lattice-matched to InP is investigated, evaluating whether the residual doping of the regrown layer can be responsible for un unexpected increase of the surface current. The effect of residual doping is evaluated via numerical calculations of dark current, considering the range of doping concentrations expected for non-intentionally doped InP. The calculations show that the increase in dark current due to the residual doping of the regrown InP layer is not enough to justify the observed increase in surface current. On the other hand, the technique is still valid as a passivation method if the photodetector pixel is isolated by etching only the top contact layer.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.