Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 2002

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: reakcja utleniania jonów

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Badania procesu redoks na elektrodzie [wzór] w kwaśnych roztworach chlorkowych. Cz. II. Procesy redoks w obecności kwasu askorbinowego.

Przywóski A., Socha J., Weber J. A.

Inżynieria Powierzchni

2002

Nr 1

3-10

W pracy przedstawiono wyniki badań metodą chronopotencjometryczną wpływ kwasu askorbinowego na przebieg reakcji utleniania jonów [wzór] na anodzie platynowej w warunkach galwanostatycznych. Stwierdzono, że dodatek kwasu askorbinowego do roztworów jonów [wzór] powoduje wydłużenie czasu przejścia reakcji, a więc pozorne zwiększenie [wzór] w roztworze. Na podstawie analizy badań przyjęto, że powstający na anodzie jon [wzór] dyfunduje od elektrody do warstwy reakcyjnej, gdzie napotyka na nieutlenione jeszcze cząsteczki (asa). Zachodzi redukcja jonu [wzór] do [wzór], dyfuzja tego ostatniego do anody i wtórne utlenianie. Wyznaczono równnie, określające grubość warstwy dyfuzyjnej rozciągającej się między powierzchnią anody a warstwą reakcyją, wewnątrz której zachodzi dyfuzja jonu [wzór], do anody i dyfuzja jonu [wzór] od anody. Analiza krzywych CHP wskazuje, że na anodzie utlenia się w pierwszej kolejności jon askorbinowy [wzór], a dopiero po przekroczeniu określonego potencjału tworzą się jony [wzór]. Można przyjąć, że zmiany pozornego wzrostu stężenia [wzór] na anodzie zachodzą w czasie od t = 0 do t = pi ? według rozkładu normalnego (krzywa Gaussa).

Investigation results of the efect of ascorbic acid (asa) on [formula] ions oxidation reaction on platinium electrode in galvanostatic conditions are presented. Chronopotentiometric method was used for the investigations. It was found, that an addition of ascorbic acid to the solutions of [formula] ions causes an extension of reaction run time and therefore an increase of [formula] in solution. After an analyse of obtained results it was accepted, that [formula] ion generated at the anode diffuses from electrode to the reaction layer, where it meets non-oxidized yet asa particles. Reduction of [formula] ion to [formula] arrives, its diffusion to the anode and its oxidation again. An equation was determined, that defines thickness of diffusion layer extending between anode surface and reaction layer, inside which the diffusion of [formula] ion towards anode and [formula] ion from anode occur. An analyse of CHP curves shows, that at the anode an oxidation of asa [formula] ion takes place first and [formula] ions are formed only when potential is exceeded. It can be assumed, that the variations of apparent growth of [formula] concentration at the anode take place in the period of time between t = o to t = pi? according to the normal distribution rule (Gaussian curve).