Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: puste przestrzenie

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

The effects of severe temperature changes and high humidity on porous CFRP

Dinnebier H., Ehrlich I.

Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering

2014

Vol. 67, nr 1

14--20

Purpose: A route to manufacture porous carbon fiber reinforced plastic (CFRP) for study purposes is described. Design/methodology/approach: The porous CFRP is characterized using standard techniques such as matrix digestion as well as the more sophisticated method of high resolution Microfocus X-Ray Tomography (μCT). A comparison of the results of those methods is presented. The mass gains of specimens with a wide range of porosity have been measured both in constant humidity and in alternating environments. Findings: It could be shown that severe temperature changes can temporarily increase the moisture content of porous CFRP. However, after the return to a constant environment, the moisture content returns back to saturation levels. Furthermore, it could be shown by X-Ray Tomography that even under severe climatic conditions no permanent liquid water condensates inside the pores. Research limitations/implications: Using Microfocus Computed Tomography it could be shown that even after nearly a year under hot-wet conditions and more than 150 severe temperature cycles there is no liquid water detectable inside the pores. Originality/value: In this paper the effects of severe temperature changes and high humidity on porous CFRP.

Wpływ profilu lutowania bezołowiowego i powłoki lutownej płytek na powstawanie pustych przestrzeni wewnątrz połączeń lutowanych

Kozioł G.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2008

Vol. 49, nr 12

109-112

W technologii bezołowiowego lutowania obserwuje się nasilenie zjawiska powstawania pustych przestrzeni w połączeniach lutowanych. Liczba, wielkość i umiejscowienie pustych przestrzeni może w istotny sposób wpływać na jakość połączeń lutowanych, zwłaszcza połączeń podzespołów BGA i CSP. Powstawanie pustych przestrzeni w połączeniu lutowanym jest zwykle przypisywane pułapkowaniu części lotnych z pasty lutowniczej lub z innych materiałów, takich jak płytka drukowana(powłoka lutowna, maska przeciwlutowa) lub metalizacji wyprowadzeń podzespołów. W przypadku bezołowiowych past mogą to być pary rozpuszczaników, pary wodnej lub gazy powstające z rozkładu produktów reakcji chemicznych aktywatora topnika podczas procesu lutowania. Ilość i rozmiar pustych przestrzeni w dużej mierze zależy od właściwości reologicznych pasty, proszku lutowniczego i rodzaju topnika w paście, ale też od rodzaju lutownej powłoki zabezpieczającej na płytce drukowanej, jaki i od charakterystyki temperaturowo-czasowej procesu lutowania. Artykuł prezentuje wyniki badań powstawania pustych przestrzeni w odniesieniu do warunków procesu lutowania i rodzaju lutownej powłoki zabezpieczającej płytki. Jakość połączeń lutowanych określano na podstawie kontroli rentgenowskiej, oceny zgładów metalograficznych oraz pomiarów siły ścinania podzespołów.

Implementation of lead-free reflow soldering aggravates some problems with quality and reliability of solder joints. One of the issues is formation of voids that are usually generated by trapped gas within solder joints when solder is at molten state. The outgassing substance is generally produced by the evaporation of the solvent in the solder paste and the rheological additives in the solder paste that may evaporate in the heating process during reflow. The outgassing substance may also be generated by the metallization of the substrate, component or the solder powder surface during the fluxing reaction in the reflow process. The effect of voids on the reliability of solder joint may depend not only on the size, but also on frequency and location. This paper presents results from a study of formation of voids with regards to reflow process and PCB surface finishes. Detection of voids was done by cross-sectional analysis. Shear strength measurements of chip capacitor were also carried out.