Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Optical emission spectra of Zn and Bi in pulsed magnetron plasma

Ziaja J., Ozimek M.

Przegląd Elektrotechniczny

|

2013

|

R. 89, nr 7

324--326

EN

This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process - power discharge, the targetsubstrate distance, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn-0.10Bi target was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of the both gases mixture. Optical emission spectra were measured in 200800 nm wavelength range.

PL

Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy parametrami procesu rozpylania - moc wyładowania, odległość target-podłoże, ciśnienie gazu, a składem chemicznym plazmy magnetronowego wyładowania jarzeniowego. W badaniach zastosowano stop 0,90Zn-0,10Bi. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz mieszaninie obu tych gazów. Widma emisyjne rejestrowano w zakresie długości fal od 200-800 nm.

2

Spektroskopia emisyjna plazmy zasilanej impulsowo w trakcie magnetronowego rozpylania stopu Zn i Bi

Ziaja J., Ozimek M.

Prace Instytutu Elektrotechniki

|

2012

|

Z. 259

51--52

PL

Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy technologicznymi parametrami procesu rozpylania – moc wydzielona na materiale rozpylanym, odległość target – podłoże, ciśnienie gazu roboczego, a składem chemicznym magnetronowej plazmy zasilanej impulsowo. W badaniach zastosowano metaliczny stop 0,90Zn-0,10Bi, o średnicy 50 mm. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz w atmosferze będącej mieszaną tych gazów. W mieszaninie ciśnienie parcjalne tlenu zmieniano w zakresie 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optyczne widma emisyjne zmierzono w zakresie długości fal od 200-800 nm. Stwierdzono, że dla różnych warunków pracy magnetronu widma emisyjne różnią się od standardowych. Wykazano, iż wartość intensywności Ibi oraz IZn wzrasta wraz ze wzrostem mocy dostarczanej do materiału rozpylanego i maleje w funkcji odległości od niego. Intensywności są również funkcją ciśnienia parcjalnego tlenu. Zmieniając stosunek IZn/IBi można w sposób kontrolowany otrzymywać warstwy o zadanym składzie chemicznym, co jest bardzo istotnym elementem z technologicznego punktu widzenia.

EN

This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process – power dissipated in the target, the distance target – substrate, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn – 0.10Bi target with a diameter of 50 mm was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of both gases mixture. In the mixture of both gases the partial pressure of oxygen was changed in the range 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optical emission spectra were measured in 200 – 800 nm wavelength range. The intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc for selected wavelengths (λBi = 306.77 nm and λZn = 636.23 nm) was studied. It was stated that for various conditions of magnetron operation the emission spectra are different from the standard ones. It was shown that the intensity of IBi and IZn lines increases along with the increase of power supplied to the target and decreases in the distance function from it. It was also proven that the intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc depends on the oxygen partial pressure. The relative lines intensities IBi and IZn are a function decreasing along with the increase in oxygen concentration.

3

Dynamika plazmy impulsowej w koaksjalnym akceleratorze IPD o elektrodach cylindrycznych i prętowych

Rabiński M., Zdunek K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2005

|

Vol. 46, nr 6

19-21

PL

Przedstawiono badania struktury i dynamiki warstwy prądowej w koaksjalnym akceleratorze plazmy IPD, używanym w inżynierii powierzchni do nakładania cienkich powłok. W procesie IPD plazma jest wytwarzana w trakcie silnoprądowego i wysokonapięciowego wyładowania w komorze próżniowej. Zwykle stosowany jest układ współosiowych elektrod złożony z centralnego pręta i rurowej elektrody zewnętrznej, odizolowanych od siebie izolatorem ceramicznym. Zbadano również rozwiązanie z zewnętrzną elektrodą złożoną ze stalowych prętów. Wykazano istnienie istotnych różnic w dynamice plazmy i składach fazowych pokryć uzyskanych podczas procesu IPD z obu rodzajami elektrod.

EN

The paper presents recent studies of a current sheet structure, as well as its dynamics, in a plasma accelerator used in the surface engineering for impulse plasma deposition (IPD). During the IPD process plasma is generated in the working gas due to a high-voltage high-current pulse discharge, ignited within an interelectrode region. Usually an internal rod and external tube, which are insulated from one another by a ceramic insulator, constitute the electrode system. In the present work the outer electrode has had the form of a squirrel cage composed of stainless steel rods, fixed symmetrically around the inner electrode. It has been found that described modifications introduce significant change in plasma dynamics and in a phase composition of the coatings.