Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: pulsed electron deposition

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Charakterystyka powłok z tlenoazotku glinu osadzanych metodą PED i PLD

Jędrzejewski R., Piwowarczyk J., Kochmański P., Baranowska J.

Inżynieria Materiałowa

2014

Vol. 35, nr 6

496--499

W pracy przedstawiono badania nad wytwarzaniem powłok z tlenoazotku glinu z azotku glinu dwoma metodami: PLD (Pulsacyjna Ablacja Laserowa) oraz PED (Pulsacyjna Ablacja Elektronowa) z zastosowaniem atmosfery zawierającej tlen. Ciśnienie tlenu w komorze oraz liczba impulsów była zmieniana w celu oceny wpływu tych parametrów na mikrostrukturę i skład chemiczny powłok. Metodą SEM-EDX/WDX oraz GDOES określono skład chemiczny powłok. Strukturę chemiczną określono metodą FTIR. Wyznaczono grubość powłok oraz zbadano topografię i chropowatość powierzchni. Stwierdzono możliwość otrzymywania cienkich powłok tlenoazotkowych tymi metodami.

The paper presents results of investigation on thin oxynitride coatings deposited by two methods PLD (Pulsed Laser Deposition) and PED (Pulsed Electron Deposition) methods at oxygen atmosphere. Aluminum nitride was used as target. Pressure of oxygen and number of pulses were changed in order to investigate an influence of these parameters on microstructure and chemical composition of coatings. Chemical composition was examined by SEM-EDX/WDX and GDOES methods. Chemical structure was studied by means of FTIR method. Thickness, roughness and topography of coatings were also measured. Ability to deposition of oxinitride coatings by these methods was confirmed.

Kinetyka wzrostu powłok Al2O3 osadzanych metodą PED i PLD

Jędrzejewski R., Baranowska J., Bańczerowska P.

Inżynieria Materiałowa

2013

Vol. 34, nr 5

463--466

Celem pracy było zbadanie kinetyki osadzania powłok dwoma metodami PVD: PLD - pulsacyjną ablacją laserową oraz PED - pulsacyjną ablacją elektronową. Otrzymano serie powłok A120, na podkładzie Si. W zależności od ciśnienia tlenu panującego w komorze przy danej liczbie strzałów otrzymano powłoki o różnej grubości, a więc przy różnej szybkości osadzania. Metodą XRD oraz SEM-EDS potwierdzono obecność A120, na powierzchni. Wykazano, iż dobór ciśnienia panującego w komorze ma istotny wpływ na morfologię powłoki.

The objective of the research was to investigate the kinetics of thin ﬁlm deposition by two PVD methods: PLD - Pulsed Laser Deposition and PED - Pulsed Electron Deposition. A series of Al2O3 coatings on the Si substrate were obtained. Depending on the oxygen pressure in the chamber by a given number of shots coatings with different thickness were obtained, which means with a different deposition rate. The presence of Al203, was confirmed by means of XRD and SEM-EDS methods. lt has been shown that the oxygen pressure in the chamber has a major impact on the morphology of the coatings.