Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  procesy plazmowe
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
W pracy przedstawiono wpływ azotu, wprowadzonego w obszar między powierzchnią stopu magnezu a powłoką SiO2, na właściwości korozyjne stopu magnezu AZ91. Azot wprowadzany był przed procesem wytworzenia warstwyochronnej za pomocą procesu ultra-płytkiej implantacji z plazmy wysokiej częstotliwości (13,56 MHz) w reaktorze PECVD. Do procesu implantacji wykorzystana została plazma wytworzona w gazach: N2 oraz NH3. Następnie, na każdej zaimplantowanej próbce wytworzono powłokę ochronną za pomocą procesu utleniania plazmowego lub osadzania plazmowego. Uzyskane wyniki zestawione zostały z próbką referencyjną badanego stopu. Właściwości korozyjne wytworzonych powłok określono na podstawie analizy krzywych woltamperometrycznych. Najniższe gęstości prądu korozji otrzymano dla próbki, której powłoka ochronna wykonana została w procesie osadzania plazmowego na powierzchni zaimplantowanej z plazmy wytworzonej w gazie N2 (ikor = 2,36 žA/cm2). Największą odporność na występowanie korozji wżerowej (największa różnica potencjałów: potencjału korozyjnego Ekor i potencjału korozji wżerowej Epit) zaobserwowano dla próbki, której powłoka ochronna wytworzona została przez utlenianie plazmowe wykonywane po procesie implantacji azotu z plazmy powstałej w gazie NH3.
EN
The work shows the influence of nitrogen, incorporated at the interface between the surface of magnesium alloy and SiO2 coating, on corrosion resistance of AZ91 magnesium alloys. Nitrogen was incorporated before the process of manufacture of protective layers by using the ultra-shallow implantation process of the high frequency plasma (13,56 MHz) in the reactor PECVD. During implantation process was used two types of plasma: N2 and NH3. Then, on each implanted sample was formed the protective coating by the plasma oxidation process or plasma deposition process. The obtained results have been compared with the reference sample. The corrosion properties of formed coatings was established on the basis of the analysis of the voltammetric curves. The lowest value of corrosion current density was obtained for the sample with coating formed in the plasma deposition process connected with N2 plasma implantation process (ikor = 2,36 žA/cm2). The lowest value of pitting corrosion (the largest difference of potentials: the potential of corrosion-resistant Ekor and potential of pitting corrosion Epit) was observed for samples,which the coating produced by plasma oxidation process connected with NH3 plasma implantation process.
PL
Opracowano laboratoryjny reaktor do badania procesu osadzania cienkich powłok ochronnych na foliach z tworzyw sztucznych w warunkach impulsowych wyładowań barierowych PDBD (pulsed dielectric barrier discharges). Powłoki osadzano pod ciśnieniem atmosferycznym w wyładowaniu impulsowym o częstotliwości 300–600 Hz w plazmie argonowej lub argonowo–tlenowej, zawierającej 5% obj. O2, używając jako substratów tetrametoksysilanu (TMOS) i tetraetoksysilanu (TEOS). Próbki wyjściowej folii oraz próbki folii z osadzonymi powłokami w różnych warunkach procesowych, poddawano badaniom XPS, FTIR, badaniom przy użyciu mikroskopu sił atomowych (AFM) oraz badaniom określającym właściwości barierowe powłok w odniesieniu do tlenu. Stwierdzono, że w warunkach PDBD zarówno aktywacja (działanie samej plazmy argonowej), jak i osadzane powłoki, w których głównym składnikiem jest tlenek krzemu, zmniejszają przenikalność tlenu przez folię. Szybkość osadzania powłok w warunkach doświadczeń wynosiła 30 nm/min dla TMOS oraz 42 nm/min dla TEOS, w zależności od użytego prekursora warstwy.
EN
A lab. reactor was developed for thin coating deposition on packaging films at ambient pressure and temp. The O2-barrier properties of 19–20 µm PE films were enhanced with Si oxide coatings deposited, (i) 30 and (ii) 42 nm/min, from (i) tetraethoxy- (TMOS) and tetraethoxy-silane (TEOS) under PDBD in Ar or Ar-(5 or 10 vol%)O2 plasma generated at frequencies of 300, 400, 500 or 600 Hz. The original and the coated PE were examd, by XPS, FTIR and AFM. The max. redn. of O2 permeability showed the containing deposited from TMOS in Ar-5% O2 at 600 Hz (from 6 × 10-9 to 1.2 × 10-9 cm3 O2/cm2 x s x cm Hg). The coatings deposited in pure Ar from TEOS were superior to those from TMOS. The uncoated PE, preactivated 22 s in pure Ar at 600 Hz, permeated 40% less O2. The O/Si ratios detd. in top and in deeper layers of the coats were ≥ 2 and ≈ 1, resp.
PL
Praca ta przedstawia zastosowanie skrobi ziemniaczanej jako napełniacza w celu wytworzenia materiałów kompozytowych z wysokiej gęstości polietylenem. Należy przypuszczać, że nastąpi poprawa mieszalności skrobi z polietylenową matrycą, po procesie modyfikacji skrobi i jej powierzchnia stanie się bardziej hydrofobowa. W tym celu został zastosowany obrotowy reaktor plazmowy w.cz. do powierzchniowej modyfikacji ziaren skrobi. Reaktor w.cz. jest układem pojemnościowo sprzężonym, wykorzystującym zewnętrzne elektrody i metan (CH4) jako gaz roboczy. Pomiary wysokości kapilarnego wzniesienia wody były wykonane w celu oceny właściwości hydrofilowych powierzchni ziaren. Skrobia po modyfikacji w wyładowaniu jarzeniowym z użyciem metanu, posiada znaczną zmianę właściwości powierzchniowych, które są bardziej hydrofobowe - proces modyfikacji potrafi kilkukrotnie obniżyć efekt kapilarnego wzniesienia cieczy.
EN
The work presents an application of potato starch as a filter in a fabrication of a composite material with high density polyethylene. It had been assumed that, in order to improve miscibility of starch with polyethylene matrix, its surface should be made more hydrophobic. Therefore, radio frequency plasma rotary reactor has been applied to the surface modification of grains of starch. The RF system is capacitively coupled, it utilizes external electrodes and methane (CH4) is used as working medium. Measurements of a height of water capillary rise have been applied to assess the hydrophilic properties of the grain surface. Starch, when modified with methane RF glow discharge, possesses considerably altered surface properties, being more hydrophobic - the modification process is able to lower capillary rise effect several times.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.