Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Powiadomienia systemowe
  • Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 7

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  proces PVD
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
This paper presents various constructions of flexible textile humidity resistive sensor prototypes which can be used in textronic clothing applications and can be easily integrated with fabric. They can be also used as sensors applied to sheets in hospitals and nursing homes, as well as in special medical clothing, especially for protecting elderly people. The author describes a method of manufacturing such sensors by three different techniques, such as embroidery, printing and sputtering (PVD). Also presented are electrical properties of the textile sensors under various environmental conditions. The resistance of the sensors was studied in a wide range of humidity, from 30 to 90%, and at temperatures of 30 °C and 40 °C. The author then chose the right type of textile substrate on which the sensors should be made. A microscopic examination of the upper electroconductive layer of the prototype sensors was also conducted. These novel methods of sensor creation for humidity measurement on flexible textile substrates and their comparison could be used for clothing functionalisation.
PL
W artykule przedstawiono różne konstrukcje elastycznych, rezystancyjnych czujników wilgotności, które można wykorzystać w aplikacjach tekstronicznych. Przedstawione sensory cechuje łatwość integracji z wyrobami odzieżowymi. Badane czujniki mogą być stosowane w aplikacjach szpitalnych, domach opieki, a także jako czujniki w specjalnej odzieży medycznej, przeznaczonej w szczególności do ochrony osób starszych. Autor opisał metodę produkcji takich czujników za pomocą trzech różnych technik, takich jak haftowanie, drukowanie i napylanie (PVD). Przedstawił także charakterystyki czujników tekstylnych, zmian rezystancji w funkcji wilgotności, w różnych warunkach otoczenia. Parametry czujników badano w szerokim zakresie wilgotności: 30-90% oraz w temperaturach: 30-40 °C. Autor wybrał dwa rodzaje podłoża tekstylnego, na którym wykonane są czujniki, które według niego będą odpowiednie do zastosowań w tekstronicznych aplikacji odzieżowych. Przedstawił również zdjęcia mikroskopowe warstw elektroprzewodzących prototypowych czujników, badania zmian wilgotności w warunkach laboratoryjnych na stanowisku testowym oraz warstwie pododzieżowej na ochotnikach podczas kontrolowanej próby wysiłkowej.
PL
W artykule zaprezentowano wyniki badań węglowo-palladowych nanokompozytowych warstw (C-Pd), przeznaczonych do zastosowania w czujnikach wodoru. Warstwy były otrzymywane w procesie PVD jak również w procesie dwustopniowym PVD/CVD. Wykorzystano transmisyjną mikroskopię elektronową (TEM) oraz skaningową mikroskopię elektronową (SEM) do badania topografii i morfologii warstw. Badania zmian rezystancji warstw PVD i PVD/CVD pod wpływem gazu zawierającego 1%H₂/N₂ prowadzono w warunkach normalnych. Poza tym badano zmiany rezystancji w warunkach wilgotności powietrza do 80% oraz w zakresie temperatur od -10 do 70°C. Zastosowano spektroskopię FTIR do stwierdzenia obecności molekuł fullerenu C₆₀ i octanu palladu w warstwach. Strukturę molekularną warstw C-Pd badano za pomocą spektroskopii podczerwieni FTIR. W niektórych warstwach obserwowano obecność pasm przypisanych do fulerenu (są to z reguły warstwy PVD). Natomiast w warstwach z procesu dwustopniowego PVD/CVD obecności tych pasm nie stwierdzono.
EN
The results of some properties studies of carbonaceous-palladium (C-Pd) nanocomposite films that can be applied in hydrogen sensors are presented. These films were obtained by PVD method as well as by two-step process PVD/CVD. Transmission electron microscopy (TEM) and scanning electron microscopy (SEM) were used to investigate a topography and a morphology of C-Pd films. The resistivity changes at normal atmosphere and ambient temperature for both kinds of films due to interaction with gas containing 1%H₂/N₂ were measured. The resistivity changes at the temperature range from -10 to 80°C and at humidity up to 80% were also studied. FTIR spectroscopy was used to state the presence of the fullerene C₆₀ and palladium acetate molecules in the film.
3
Content available remote Chromium carbide coatings obtained by the hybrid PVD methods
EN
Purpose: With the use of the Arc-PVD and Arc-EB PVD hybrid method, the chromium carbide coatings were deposited on steel substrate. Two kinds of coatings were obtained. The nanostructure coatings were formed by deposition of chromium carbide films by Arc PVD evaporation technique. The multilayer coatings were produced by Arc-EB PVD hybrid technology. In the second case the amorphous phase in majority was found in samples, identified by X-ray investigations. Design/methodology/approach: The Arc PVD and combination Arc-EB PVD methods were used for carbide coatings deposition. The special hybrid multisource device, produced in the Institute for Sustainable Technologies – National Research Institute (ITeE –PIB) in Radom, was used for sample deposition. The microstructures of coatings were investigated by JEM 20101 ARP transmission electron microscopy (TEM), TESLA BS500 scanning electron microscopy (SEM) and Olympus GX50 optical microscopy (MO). The X-ray diffraction was utilized to identify phase configuration in coatings Findings: The microstructure of deposited coatings differs depending on the deposition method used. The Arc PVD deposition produced nanometric coatings with the Cr3C2, Cr23C6, Cr7C3 and CrC carbides built from nanometric in size clusters. In the case of the Arc-EB PVD hybrid technology in majority of cases the amorphous microstructure of coatings was found. The hybrid coatings consist of alternating layers of Ni/Cr-Cr3C2. Practical implications: The performed investigations provide information, which could be useful in the industrial practice for the production of wear resistant coatings on different equipments and tools. Originality/value: It was assumed that by using different kinds of PVD methods the different microstructures of coatings could be formed.
EN
This paper presents the research results on the structure and mechanical properties of nanocomposite coatings deposited by PVD process onto the tool steel substrates. The tests were carried out on TiAlSiN, CrAlSiN and AlTiCrN coatings. It was found that the structure of the PVD coatings consisted of fine crystallites, while their average size fitted within the range of 15÷30 nm, depending on the coating type. The coatings demonstrated columnar structure and dense cross-section morphology as well as good adherence to the substrate, the latter not only being the effect of adhesion but also by the transition zone between the coating and the substrate, developed as a result of diffusion and high-energy ion action that caused mixing of the elements in the interface zone. The critical load LC2 lies within the range of 46÷54 N, depending on the coating and substrate type. The coatings demonstrate a high hardness (~40 GPa) and corrosion resistance. The good properties of the PVD nanocomposite coatings make them suitable in various engineering and industrial applications.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań struktury i własności mechanicznych nanokompozytowych powłok naniesionych w procesie PVD na podłoże ze stali narzędziowych. Badania wykonano na powłokach TiAlSiN, CrAlSiN i AlTiCrN. Stwierdzono, że struktura powłok PVD złożona jest z drobnych krystalitów, a ich średnia wielkość zawiera się w przedziale 15÷30 nm w zależności od rodzaju powłoki. Badane powłoki wykazują strukturę kolumnową oraz strukturę o zagęszczonych krystalitach, jak również dobrą przyczepność do podłoża, o której decyduje nie tylko adhezja, lecz również warstwa przejściowa pomiędzy powłoką a podłożem powstała w wyniku dyfuzji i na skutek działania jonów o dużej energii, powodujących przemieszanie się pierwiastków w strefie połączenia. Obciążenie krytyczne LC2 zawarte jest w przedziale 46÷54 N, w zależności od powłoki i materiału podłoża. Badane powłoki wykazują wysoką twardość (~40 GPa) i odporność korozyjną. Dobre własności nanokompozytowych powłok PVD powodują, że warstwy te są odpowiednie do różnych technicznych i przemysłowych zastosowań.
6
EN
In the paper in-situ visualisation system of nitrided layer growth and monitoring system of growth and etching process of carbon films via X-ray reflectivity have been presented. The principle of operation of the visualisation system is based on a complementary interaction of the magnetic sensor and the theoretical-experimental model of the process (model of the process). The magnetic sensor is placed directly in the furnace retort and constitutes an element of the system which monitors the nucleation and the growth of the nitrided layer as a result of a change of the value of the magnetic permeability of the ferromagnetic diffusion layer, and the creation of iron nitrides being paramagnetic in the temperatures of the process. In-situ X-ray reflectivity provides a unique possibility of simultaneous determination of roughness and density of the deposited film.
PL
W pracy omówiono układ in-situ wizualizacji wzrostu warstwy azotowanej oraz układ monitorowania wzrostu warstw węglikowych za pomocą analizy odbitego promieniowania rentgenowskiego. Zasada działania układu wizualizacji polega na komplementarnym współdziałaniu czujnika magnetycznego i modelu eksperymentalno-teoretycznego procesu. Czujnik magnetyczny jest umieszczony bezpośrednio w retorcie pieca i stanowi element układu, który monitoruje zarodkowanie i wzrost warstwy azotowanej w wyniku zmiany wartości przenikalności magnetycznej ferromagnetycznej warstwy dyfuzyjnej i tworzenia się azotków żelaza, paramagnetycznych w temperaturach procesu. Analiza in-situ odbitego promieniowania rentgenowskiego dostarcza unikalnych możliwości równoczesnego określania chropowatości i gęstości nanoszonej warstwy.
7
Content available remote Nowoczesne konstrukcje komór próżniowych dla technologii PAPVD
PL
W artykule przedstawiono wyniki prac w zakresie konstrukcji i wytwarzania aparatury do przemysłowych zastosowań technologii PAPVD. Wśród opracowanych i produkowanych w Instytucie urządzeń znajdują się komory próżniowe wraz z osprzętem pomiarowym i technologicznym, źródła plazmy i urządzenia do przygotowania powierzchni detali pokrywanych powłokami a także ich przechowywania.
EN
In the article the results of Works in the area of construction and production of apparatus for industrial application of PVD Technologies were presented. Among tools developer and manufactured in the Institute there are vapor chambers with measurement and technological accessories, plasma tesources and tools for preparation of details surfach covered with coatings and their storing.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.