PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  powłoki Al-Cu
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Microstructure of Al-Cu thin film deposited by MOCVD
Sarapata B., Zielińska-Lipiec A., Vahlas C.
Inżynieria Materiałowa
|
2010
|
Vol. 31, nr 3
386-389
EN
Several intermetallic phases exist in the Al-Cu system which are approximants for quasicrystals or periodic CMA (Complex Metallic Alloys) phases. The microstructure of Al-Cu coatings deposited by MOCVD method was investigated. An attempt was made to obtain the Al-Cu coatings, containing the E-Al3Cu4 or -Al4Cu9 phase with the total thickness in the range of 1 um.
PL
W układzie podwójnym Al-Cu występuje szereg związków międzymetalicznych stanowiących aproksymanty dla kwazikryształów lub faz periodycznych typu CMA (Complex Metallic Alloys). Zbadano możliwość wytwarzania powłok złożonych z Al oraz Cu za pomocą techniki MOCVD. Podjęto próbę uzyskania powłok, których skład odpowiadałby fazom E-Al3Cu4 lub -Al4Cu9 przy jednoczesnym utrzymaniu grubości powłok na poziomie ok. 1 um.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.