Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 2010

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: potencjał uzupełniający plazmy

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Azotowanie jarzeniowe na potencjale uzupełniającym

Betiuk M., Kowalski S.

Inżynieria Materiałowa

2010

Vol. 31, nr 4

869-873

W pracy przedstawiono stan zagadnienia dotyczący podstawowych modeli procesu azotowania jarzeniowego (azotowanie jonowe). W syntetyczny sposób scharakteryzowano zjawiska odpowiedzialne za proces azotowania jarzeniowego technologią tradycyjną i z zastosowaniem ekranu aktywnego. Wyjaśniono istotę procesu azotowania jarzeniowego na potencjale uzupełniającym. Przedstawiono eksperyment i wyniki badań azotowania stali X37CrMo5-1 w trzech obszarach plazmy, w tym na potencjale uzupełniającym. Plazmę wyładowania jarzeniowego tworzono z mieszanki N2 + H2 (30÷70%) podawanej do komory pieca jarzeniowego z jonowym ekranem grzewczym z zachowaniem ciśnienia 220 Pa.

The paper presents state of the problem of general models glow-discharge nitriding process (ion nitriding). In the synthetic manner responsible phenomena for glow-discharge nitriding process with the traditional technology, with the use of the active screen and using the complementary potential have been characterized. Nature the ion nitriding on complementary potential was explained. Experiment and findings of the nitriding steel WCL in three areas of plasma, also on the complementary potential have been presented. Plasma glow discharge was created from the mixture N2 + H2 (30÷70%) in the chamber with ionic heating screen to keep pressure 220 Pa.