PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 10

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  pomiary rezystancji
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Constant temperature chamber with high Ssability for resistance standards
Krawczyk Krystian, Kocjan Bartłomiej, Lisowski Michał
Przegląd Elektrotechniczny
|
2022
|
R. 98, nr 12
44--47
EN
In this paper, a system for maintaining constant temperature in an thermostatic air chamber is described. Temperature regulation in this chamber is based on a Peliter module and a PID temperature controller. This system is designed to stabilize the temperature of resistance standards during measurements, but may be used for other purposes. Results of long-term tests and the results of the environmental conditions influence on the temperature stabilization in the chamber indicate that the system is capable of stabilizing the temperature in the chamber within ±0.01 °C.
PL
W artykule opisano system utrzymywania stałej temperatury w powietrznej komorze termostatycznej. Regulacja temperatury w komorze oparta jest na module Pelitera oraz regulatorze temperatury PID. Ten system przeznaczony jest do stabilizacji temperatury wzorców rezystancji podczas pomiarów, ale może być użytkowany dla innych celów. Wyniki długoterminowych badań oraz wyniki wpływu warunków środowiskowych na stabilizację temperatury w komorze wskazują, że system jest w stanie stabilizować temperaturę w komorze do ±0,01°C.
2
Content available System stabilizacji temperatury w komorze pomiarowej
Kocjan B., Krawczyk K.
Zeszyty Naukowe Wydziału Elektrotechniki i Automatyki Politechniki Gdańskiej
|
2017
|
Nr 54
131--134
PL
Zaprezentowano system do stabilizacji temperatury rezystorów wzorcowych podczas ich wzorcowania z bardzo wysoką dokładnością. Podstawowym elementem tego systemu jest komora pomiarowa z modułami Peltiera. Przedstawiono konstrukcję tej komory i wyniki wstępnych badań stabilności długoterminowej temperatury z uwzględnieniem wpływu warunków otoczenia na dokładność systemu. System zapewnia długoterminową stałość temperatury 23°C wewnątrz komory z niestałościa ±0,02 °C.
EN
One of the factor that influence accuracy of resistance measurements is temperature change during measurements. This paper describes a system to maintain stable air temperature in a measurement chamber. The aim of the system is to stabilize temperature of resistance standards during measurements. Presented system consist of a measurement chamber and temperature controller. In this paper the construction of the measurement chamber and the temperature controller is discussed. Moreover results of the system stabilization tests are presented. The designed and tested stabilization system maintains settled air temperature with the accuracy ±0.015 °C. This satisfied temperature stability requirements for measurements of resistance standard.
3
Content available Dynamic resistance measurements of MV switch-disconnector contacts
Banaszczyk J., Oramus P., Domurad Z., Piekarski P.
Zeszyty Naukowe Wydziału Elektrotechniki i Automatyki Politechniki Gdańskiej
|
2015
|
Nr 46
17--20
EN
Dynamic Resistance Measurement (DRM) is an effective technique for diagnosing the condition of high power switch contacts. Moreover, the technique can be used to predict the allowable number of switching operations that can be carried out before maintenance of the apparatus is necessary. Since coating materials are characterized by different mechanical and electrical properties, the DRM method can help predict the performance and improve the design of existing high power switches. In this paper both static and dynamic contact resistance measurements for new and worn contact sets of a standard MV switch-disconnector are presented. The contact resistance was measured both in function of the DC injected current magnitude, as well as the number of executed switching operations. The measurements were performed by means of the 4-wire method, and a high speed acquisition digital oscilloscope was used to register the DRM curves.
PL
Pomiar dynamicznej rezystancji styków jest skuteczną metodą diagnostyki stanu aparatu zestykowego. Metoda ta może być wykorzystana do przewidywania możliwej liczby operacji łączeniowych, które mogą być przeprowadzone przed wymaganym przeglądem technicznym urządzenia. Z uwagi na fakt, iż różne materiały stykowe charakteryzują się zróżnicowanymi parametrami mechanicznymi i elektrycznymi, metoda pomiarowa zaprezentowana w artykule może zostać użyta do poprawy istniejących konstrukcji łączników elektroenergetycznych. Niniejszy artykuł przedstawia wyniki pomiarów statycznej oraz dynamicznej rezystancji styku przeprowadzonych dla rozłącznika średniego napięcia. Rezystancję styku zmierzono w funkcji prądu przepływającego przez badany zestyk oraz w funkcji liczby przeprowadzonych operacji łączeniowych, odpowiednio dla nowego i eksploatowanego układu stykowego. Pomiary wykonano przy użyciu czteroprzewodowej metody, z wykorzystaniem cyfrowego oscyloskopu zapewniającego wysoką częstotliwość próbkowania.
4
Przyrządy pomiarowe dla elektroinstalatora
Żabicki D.
Elektroinstalator
|
2014
|
nr 2
38--42
PL
Prace przy urządzeniach i instalacjach elektrycznych nie obejdą się bez odpowiednich przyrządów pomiarowych. Nowoczesne przyrządy tego typu wyposaża się w ekrany dotykowe oraz zaawansowane technologicznie opcje w zakresie wymiany danych, również z urządzeniami takimi jak smartfony, tablety i palmtopy (z systemami iOS i Android).
5
Content available remote Wpływ napięcia na wyniki precyzyjnych pomiarów dużych rezystancji
Krawczyk K.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2012
|
R. 88, nr 11b
196-198
PL
W pracy opisano hierarchiczny układ przekazywania jednostki rezystancji. Wymienione zostały czynniki wpływające na wyniki pomiarów dużych rezystancji oraz podane zostały przykładowe rozwiązania umożliwiające minimalizacje wpływu tych czynników. Szczegółowo opisano wpływ napięcia na wyniki pomiarów dużych rezystancji. Przedstawiono problematykę braku informacji o napięciu pomiarowym dla rezystorów wzorcowych oraz pokazano możliwe błędy z tego wynikające.
EN
In this paper hierarchic system for resistance unit transfer has been described. Factors influencing high resistance measurements have been recognized and possible solutions for minimization of their influence have been shown. Influence of measurement voltage on the resistance measurements have been described in details. Problems of lack of information about the measurement voltage for resistance standards have been presented together with errors that may result from it.
6
Content available Koncepcja dwutorowego systemu przekazywania jednostki rezystancji od wzorca pierwotnego QHR do wzorców o wartościach do 100 TΩ
Lisowski M., Krawczyk K., Kocjan B.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2012
|
R. 58, nr 9
779-781
PL
Proponowany system jest uzupełnieniem zrealizowanego, w ramach projektu badawczego rozwojowego, systemu przekazywania jednostki rezystancji od wzorca pierwotnego QHR do wzorców wtórnych o dodatkowy drugi tor. Zapewni to weryfikację uzyskanych wyników, co ma bardzo istotne znaczenie dla pomiarów o najwyższych dokładnościach. Wymagać to będzie skonstruowania nowych czterech transferów rezystancji: (0,1-1-10) MΩ, (10-100-1000) MΩ, (1-10-100) GΩ i (0,1-1-10) TΩ.
EN
Authors describe the resistance unit transfer system, from the primary standard QHR to 100 TΩ standards based on Hamon transfers, which they developed (Fig. 1) [5, 6, 8]. Resistance unit is transferred from the QHR to 100 Ω standard with the Cryogenic Current Comparator (CCC), and then with the same comparator to 10 kΩ standard. Next to standard up to 1 GΩ? Hamon, the transfers with Measuremnt International 6000B bridge are used. Above 1 GΩ up to 100 TΩ Hamon transfers and Guildline 6500 teraommeter are used. Hamon transfers which are used in the system are sealed in metal boxes which protect from humidity and external interferences; they are also thermostated with instability of š0.01 °C [5, 9]. Described system is very accurate if voltage applied to Hamon transfer resistors is constant. In practice this is impossible and corrections due to voltage change are necessary, what is main limitation of this system accuracy. Furthermore measurement equipment does not enable sufficient voltage regulation what causes additional errors. Secondary standards are not thermally stabilized, and for teraommeter it is impossible to set measurement time. Described system enables resistance unit transfer with only one path, this does not allow to verify results of measurements. Therefore authors propose to equip existing system with second path, based on additional four Hamon transfers (Fig. 2.). Authors also propose to develop special thermostats for secondary standards and active-arm bridge (Fig. 3.) [10].
7
Content available Pomiary rezystancji przejścia między dwiema nitkami elektroprzewodzącymi
Gniotek K., Zięba J., Frydrysiak M., Tokarska M.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2010
|
R. 56, nr 9
1020-1023
PL
W artykule opisano sposób pomiaru nowej cechy tekstyliów jaką jest rezystancja punktu styku i linii styku dwóch nitek elektroprzewodzących nazwana łącznie rezystancją przejścia. Cecha ta ma kluczowe znaczenie w systemach tekstronicznych łączących technologie włókiennicze z elektronicznymi i informatycznymi. Podano przykładowe wyniki pomiarów przeprowadzonych na unikatowych stanowiskach pomiarowych. Opisano też weryfikację hipotezy o wpływie długości linii styku na wartość rezystancji przejścia.
EN
The paper describes a method for measuring the new feature of textiles, namely the resistance of a contact point and contact line of two electro conductive threads. It is known as a transition resistance. The feature is of special importance in case of textronic systems combining textile, electronic and informatic technologies. The scheme of electroconductive woven fabric and its electrical model is shown. In the structure the contact point resistance is dominant. The contact line resistance is characteristic for knitted structures. They are presented, too, and their electrical model is described. The analysis of the influence of a lap angle of two electro conductive threads on the contact line length was performed. There are also given some results of measurements taken on unique measuring stands. Verification of the hypothesis concerning the influence of the contact line length on the transition resistance value is described. The hypothesis says that when the contact line length increases the line resistance decreases in the lap angle range from 20° to 120°. For the angle value higher than 120° the phenomenon does not exist. The analysis of this phenomenon will be the subject of next investigations.
8
Content available Cyfrowe pomiary rezystancji mostkami zrównoważonymi
Skubis T., Tync B.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2004
|
R. 50, nr 12
5-8
PL
W artykule przedstawiono nowe możliwości równoważenia mostków prądu stałego, wynikające z kluczowania. Mostki równoważone ładunkowo zachowują wszystkie właściwości mostków zrównoważonych oraz mają wiele interesujących nowych właściwości takich jak: możliwość automatycznego równoważenia przez kluczowanie rezystancji, cyfrowa postać wyniku, cyfrowa zmiana czułości mostka, osiągnięcie stanu zrównoważenia mostków, które w układach dotychczasowych pracują jako niezrównoważone i inne.
EN
New possibilities of DC bridge balanced by choppering of the bridge arm resistance there are presented in the paper. The charge-balanced resistance bridges are characterized by all features well known from balanced Wheatstone bridge, but they have also a lot of interesting new features (automatic balancing by resistance choppering, digital form of the measurement result, digital bridge sensitivity change, balanced circuit as an alternative usually non-balanced bridge). Different modes DC bridge with choppered arm resistance resulting from general bridge balance equation there are pointed out.
9
Wiroprądowa metoda badania cienkich niemagnetycznych warstw przewodzących naniesionych na podłoże szklane
Borek R., Stec W.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2003
|
R. 49, nr 7-8
36-38
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań metoda wiroprądową cienkich warstw metalicznych. Obiektem badania były warstwy przewodzące ze stali chromoniklowej naniesione na podłoze szklane w procesie napylania magnetronowego. Opisano sposób pomiaru rezystywności warstw oraz oceniono możliwość zastosowania tej metody w procesie technologicznym.
EN
The conducting film made by magnetron sputtering process on a glass substructure are investigated. The eddy current method is used for the resistivity measurement of the films. An application of the method in technological process is considered.
10
Content available remote Pomiary rezystancji izolacji instalacji i odbiorników elektrycznych
Stępień T.
Izolacje
|
2000
|
R. 5, nr 3
64-67
PL
Pomiary rezystancji izolacji wykonuje się specjalnymi miernikami o dużych zakresach pomiarowych, od kil ku kiloomów do wielu megaomów. Mierniki rezystancji izolacji mają własne źródło prądu o napięciu 250, 500 lub 1000 V zasilane z baterii lub napędzane ręcznie (korbką) lub silniczkiem. Do pomiarów wykorzystuje się prąd stały, aby można było wyeliminować wpływ naturalnych pojemności instalacji i odbiorników oraz pojemności różnorodnych filtrów zainstalowanych odbiornikach.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.