Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Tribologia

1 2006

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: plazma wyładowania indukcyjnego

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

ICP enhanced reactive magnetron sputtering system for synthesis of alumina coatings

Walkowicz J., Zykov A., Dudin S., Yakovin S., Brudnias R.

Tribologia

2006

nr 6

163-174

The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality aluminum oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, was introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular oxygen O2. Behaviour of deposition process characteristics were investigated with and without the activation of the reactive species.

W artykule przedstawione są wyniki badań stałoprądowego magnetronowego układu rozpylającego do osadzania powłok tlenku aluminium. W prezentowanym układzie, w odróżnieniu od standardowych magnetronowych układów osadzania wykorzystujących tlen cząsteczkowy w podstawowym stanie energetycznym, do komory procesowej dostarczany był tlen wzbudzany do wyższych poziomów energetycznych w niezależnym źródle z indukcyjnym wyładowaniem RF. Zbadane zostały zmiany charakterystyk procesu osadzania, ze wzbudzaniem i bez wzbudzania składników reaktywnych.