Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: plasmotron

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Rozkład strumieni cieplnych w plazmotronie strugowym.

Sawicki A.

Chemia i Inżynieria Ekologiczna

1999

Vol. 6, nr 8

789-798

Opisano rozkład strumieni cieplnych w długim łuku elektrycznym prądu stałego. W analizie wykorzystano model dwuwarstwowy łuku. Podano związki między uzyskanym rozkładem strumieni w łuku a rozkładem strumieni cieplnych wewnątrz komory wyładowczej i dyszy plazmotronu strugowego. Na podstawie warunku maksymalnej sprawności cieplnej aparatu określono racjonalne długości wstawki międzyelektrodowej plazmotronów pracujacych z różnymi gazami plazmotwórczymi.

Thermal fluxes distribution in long electrical d.c. arc is described. Two-layer model electrical arc is applied in the analysis. Relationships between obtained distribution of fluxes in arc and thermal flux structure in the discharge chamber and stream plasmatron nozzle is described. Based on the maximum thermal efficiency condition the apparatus rational lengths in between-electrodes insert of the plasmatrons working with different plasmagenic gases have been determined.

Optymalizacja układu regulacji dla tranzystorowego zasilacza obciążonego plazmotronem

Rodacki T., Kandyba A.

Jakość i Użytkowanie Energii Elektrycznej

1998

T. 4, z. 2

49-57

W artykule przedstawiono sposób optymalizacji za pomoca metody linii pierwiastkowych i programu CC-Sit nastaw regulatora ukłau zasilania plazmotronu. Jako kryterium optymalnych nastaw przyjęto maksymalny stopień stabilności i minimalną oscylacyjność układu. Dla takich kryteriów opracowano zależność stopnia stabilności od czasu całkowania regulatora i zależność wzmocnienia regulatora od czasu całkowania. Ponadto przedstawiono wpływ wielkości dławika w obwodzie łuku na te wielkości. Syntezy układu regulacji dokonano dla dwóch przypadków, z uwzględnieniem własności dynamicznych łuku i z pominięciem dynamiki łuku.

The paper illustrates the method of optimising the controler settings of the plasmotron supply system with the method of root lines applying the CC-Sit program. Maximum stability degree and the minimal oscillators of the control system were taken as the criterion for optimal settings. For this criterion a relationship was established between the stability degree and integration time of the controler and between the controler gain and the integration time. The influence of the reactor in the arc circuit on these parameters was also presented in the paper. The synthesis of the control system was made for two cases, one with the dynamics of the arc taken with consideration and one without.