Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 2007

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: plasma analyze

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wykorzystanie spektralnej analizy plazmowej do sterowania procesem syntezy powłoki TiAlC

Betiuk M., Burdyński K.

Inżynieria Powierzchni

2007

nr 4

23-28

Niniejsza praca pokazuje możliwości otrzymywania powłoki TiAlC za pomocą chemicznej reakcji między jonami tytanu a prekursorem metaloorganicznym zawierającym aluminium. Zawartość aluminium w powłoce ma duży wpływ na jej właściwości mechaniczne i chemiczne. W niniejszych badaniach nad technologią MOPVD skupiono się nad rejestracją spektralnych sygnałów emisyjnych jonów Al+ i Ti+ oraz nad składem chemicznym powstałych faz. Taki rodzaj synergizmu był w pracy analizowany. W badaniach starano się zbadać możliwość wykorzystania komputerowej kontroli procesu w trakcie trwania procesu syntezy powłoki. Głównym celem prezentowanych badań była synteza powłoki TiAlC. W trakcie procesów MOPVD badane były podstawowe parametry takie jak: ciśnienie i skład chemiczny atmosfery ponieważ te parametry miały największy wpływ na właściwości otrzymanych powłok.

The possibility to obtain the TiAlC coatings by chemical plasma reactions between titanium ions and metaloorganic precursors (which contain an aluminum) is showed in this paper. Aluminum content in coatings of this type has a huge influence on their mechanical and chemical properties. In our studies of MO PVD technology we were focused on registration of spectral emission lines signals from Al+ and Ti+ ions and of chemical composition of occurred phases. This kind of synergism was analyzed. We tried to predict a possibility of application computer control of the plasma synthesis process. The main aim of our study was to work out plasma synthesis process of TiAlC coatings with plasma spectral emission signal control. Fundamental parameters like: pressure, chemical composition of atmosphere were investigated during the MO PVD processes because this factors have significant influence on phase and chemical structure of deposited coatings.