Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: plasma RF

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Plazma niskociśnieniowa w inżynierii powierzchni

Betiuk M.

Inżynieria Powierzchni

2009

Nr 2

63-76

W artykule przedstawiono syntetyczny opis środowiska plazmy niskociśnieniowej generowanej w wyładowaniach elektrycznych stałoprądowych( DC) prądu zmiennego niskiej (AC), wysokiej częstotliwości (RF), oraz promieniowania mikrofalowego (MF) stosowanego do obróbki powierzchni metali, ceramiki, półprzewodników, tworzyw sztucznych. Zaprezentowano wybrane zastosowania technologii plazmy niskociśnieniowej w inżynierii powierzchni.

Description of the environment low-pressure-plasma generated in electric discharges DC, the alternating current of low (AC) and high-frequency ( RF), and the microwave radiation (MF) applied to processing surface of metals, ceramics, semiconductors, plastics is presented in synthetic way. Applications of technology of low-pressure-plasma in the surface engineering were selected and shown.

Badanie wpływu konfiguracji elektrody na rozkład pola świecenia wyładowania wielkiej częstotliwości

Grabarczyk J., Lewandowski P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2005

Vol. 46, nr 6

25-26

Przedstawiono badania wykorzystujące zjawisko optycznej emisji plazmy wielkiej częstotliwości do diagnozowania warunków istniejących w obszarze wyładowania plazmo-chemicznego odpowiedzialnego za powstawanie warstwy. Badania polegały na rejestracji widzialnego widma wyładowania jarzeniowego za pomocą zwykłej kamery CCD. Uzyskane obrazy następnie poddano obróbce komputerowej. Za pomocą metod analizy obrazu dokonano transformacji zarejestrowanych zdjęć w taki sposób, aby wyodrębnić w pobliżu powierzchni poddawanych modyfikacji granice zawierające obszary plazmy o różnej intensywności świecenia.

At this work were presented examinations, which take advantage of the optical emission of the high frequency plasma phenomenon to diagnose conditions at the area of plasmo-chemical discharge which are responsible for the coatings deposition. These examinations were executed by registration of visible spectrum of glow discharge using the regular CCD camera. Obtained pictures were put to the computer processing. Using the images analysis methods the transformation of registered pictures were made. This proceedings were conducted to point the optimal sample position in the plasma discharge area.