W artykule przedstawiono syntetyczny opis środowiska plazmy niskociśnieniowej generowanej w wyładowaniach elektrycznych stałoprądowych( DC) prądu zmiennego niskiej (AC), wysokiej częstotliwości (RF), oraz promieniowania mikrofalowego (MF) stosowanego do obróbki powierzchni metali, ceramiki, półprzewodników, tworzyw sztucznych. Zaprezentowano wybrane zastosowania technologii plazmy niskociśnieniowej w inżynierii powierzchni.
EN
Description of the environment low-pressure-plasma generated in electric discharges DC, the alternating current of low (AC) and high-frequency ( RF), and the microwave radiation (MF) applied to processing surface of metals, ceramics, semiconductors, plastics is presented in synthetic way. Applications of technology of low-pressure-plasma in the surface engineering were selected and shown.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.