In this paper piezoconductivity phenomenon in MOSFET channel is discussed and extension of drain current model with possibility of stress consideration is proposed. Analysis of obtained model combined with examination of stress components inherent in the MOSFET channel as well as distributions of specific piezoconductance coefficients on a plane of channel can show which directions of transistor channel are desirable for improvement of MOSFET performances. This model gives possibility to predict optimal transistor channel orientation, for the given stress state in MOSFET channel. Possible simplification of this model is considered. In particular, stress state and significant piezoconductance coefficient distributions on planes f100g, f110g as well as f111g are analyzed. For assumed particular cases of stress state in the channel, final models of MOSFT for considered specific planes are given.
W artykule omówiono zjawisko piezokonduktywności w kanale tranzystora MOS. W szczególności zaproponowano model prądu tranzystora uwzględniający obecność naprężeń w kanale. Zbadano także rozkłady współczynników piezokonduktywności na płaszczyznach {100}, {110}, {111}. Na koniec przeanalizowano wpływ naprężenia na charakterystyki prądowe tranzystora MOS na poszczególnych płaszczyznach.
EN
In this paper, piezoconductivity in MOSFET channel is presented. Especially, model of drain current under stress is proposed. On planes {100}, {110} and {111} distribution of significant piezoconductance coefficient are analyzed. For assumed specific cases of stress state in the channel the final models of MOSFET for these specific planes are given.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.