Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: oxygen inhibition

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wpływ dodatku rozgałęzionych żywic uretanowo-metakrylowych na właściwości kompozytów ceramika-polimer do zastosowań stomatologicznych

Szafran M., Rokicki G., Biernat M., Cwalińska A.

Kompozyty

2007

R. 7, nr 3

117-121

Kompozyty ceramiczno-polimerowe są szeroko stosowane w dziedzinie stomatologii, a prace nad optymalizacją ich właściwości nadal trwają. Z danych literaturowych wynika, że poprawę parametrów tych materiałów można osiągnąć, dobierając odpowiednią ilość i skład proszku ceramicznego, a także poprzez dobór odpowiedniej kompozycji monomerów. W artykule zaprezentowano wstępne wyniki badań dotyczących wykorzystania nowej, wielofunkcyjnej żywicy uretanowo-metakrylowej UM1 jako składnika fotoutwardzalnych materiałów kompozytowych. W celu zbadania stopnia konwersji (spektroskopia FTIR), skurczu polimeryzacyjnego i mikrotwardości Vickersa wykonano serie próbek bez wypełniacza oraz z dodatkiem silanizowanej mikro- i nanokrzemionki. Założono stały procent objętościowy wypełniacza, zmieniając czas naświetlania oraz udział dodatku żywicy UM1 w masie polimerowej opartej na konwencjonalnej żywicy na bazie Bis-GMA. Otrzymane wyniki potwierdziły przypuszczenia o zmniejszonej wrażliwości żywicy uretanowo-metakrylowej UM1 na inhibicję tlenową oraz o niższym, od żywic obecnie stosowanych, skurczu polimeryzacyjnym.

Ceramic-polymer composites are widely used as dentistry materials and they have undergone significant development since their advent. However they still have shortcomings limiting their application and need to be improved. This study is a preliminary investigation on the use of a new synthesized urethane-methacrylic resin UM1 as a component of a photocurable composite with low polymerization shrinkage and reduced oxygen inhibition. The results were compared with the properties of a commonly used Bis-GMA-based resin. Experimental samples were prepared from the unfilled resins and by mixing the silane-treated filler with the resins. Volumeric shrinkage and degree of conversion of the unfilled resins were examined by density measurements and FTIR spectroscopy. Filler containing samples were used for the microstructure analysis and microhardness tests. The unfilled UM1 resin showed 3.5 times higher photopolymerization rate than the resin based on Bis-GMA. UM1 consists of the monomers containing four methacrylic groups in a molecule and exhibits a very low polymerization shrinkage of 2.5% which is about 4 times lower than the shrinkage of a conventional Bis-GMA/TEGDMA system. The microhardness results of light-cured composites, containing 60% vol. of micro- and nanofiller, increased within the amount of UM1 in the system. Preliminary results showed that urethane-methacrylic resin (UM1) is a promising material and can be used as an alternative to Bis-GMA, mainly due to a relatively low polymerization shrinkage and low oxygen inhibition.

Inhibicja tlenowa procesów fotopolimeryzacji i sposoby jej ograniczania

Biernat M., Rokicki G.

Polimery

2005

T. 50, nr 9

633-645

W artykule przeglądowym omówiono mechanizm i kinetykę fotopolimeryzacji rodnikowej nienasyconych monomerów prowadzonej w obecności tlenu z powietrza. Przedstawiono czynniki wpływające na wartość inhibicji tlenowej oraz podstawowe sposoby jej ograniczania, m.in. zastosowanie osłon z gazu obojętnego, powłok ochronnych, barier z przezroczystych folii lub wosków parafinowych oraz użycie światła o dużej intensywności. Przedyskutowano fotopolimeryzację nienasyconych monomerów wykazujących zmniejszoną wrażliwość na inhibitujące działanie tlenu. Omówiono mechanizm fotopolimeryzacji układów zawierających monomery polarne i monomery zdolne do tworzenia wiązań wodorowych oraz zależność szybkości polimeryzacji od ich struktury. Opisano również podstawowe metody oznaczania wartości inhibicji tlenowej.

In this review the mechanism and kinetics of radical photopolymerization of unsaturated monomers carried out in the presence of atmospheric oxygen have been described. The factors influencing the oxygen inhibition value and basic methods of its suppression such as among others the use of inert gas screen, protective coatings, barriers made of transparent films or paraffin waxes, and use of high intensity light, were presented. Photopolymerization of unsaturated monomers showing decreased sensitivity to oxygen inhibition has been discussed. The mechanism of photopolymerization of the systems containing polar monomers or monomers able to form hydrogen bonds was presented as well as the dependence of polymerization rate on the monomer structure (Table 2). Basic methods of measuring of the oxygen inhibition value have also been described.