Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Plasma emission spectroscopy as a monitoring tool for deposition of S-phase layers by magnetron sputtering

Suszko T., Jahodowa V., Gulbiński W.

Inżynieria Materiałowa

|

2015

|

Vol. 36, nr 5

273--275

EN

Numerous attempts to improve hardness and wear resistance of austenitic stainless steel by nitriding led to identification of so called S-phase (expanded austenite). Currently S-phase is obtained not only by nitriding of steel but also by physical vapour deposition (PVD). The aim of present work was to verify whether the magnetron sputter deposition process of the S-phase layers from 316L steel target can be monitored with the use of plasma optical emission spectroscopy (OES). Specific atomic emission lines of steel target and gas atmosphere components were chosen and analyzed. A series of deposition processes as well as samples characterization was performed. The atomic chromium emission line at 520.8 nm has been selected and proven to be sensitive to the 316L target poisoning process and thus appropriate for deposition process monitoring.

PL

Liczne próby zwiększenia twardości oraz odporności na zużycie ścierne austenitycznych stali nierdzewnych doprowadziły do identyfikacji tak zwanej fazy S (austenitu rozszerzonego). Aktualnie fazę tę na powierzchni stali uzyskuje się nie tylko na drodze azotowania, ale również metodami PVD. Celem pracy było zweryfikowanie, czy proces nanoszenia warstw fazy S za pomocą rozpylania magnetronowego targetu ze stali 316L może być monitorowany z wykorzystaniem optycznej spektroskopii emisyjnej (OSE) plazmy procesowej. Wybrano i przeanalizowano szereg linii emisyjnych zarówno materiału źródła, jak i atmosfery gazowej. Przeprowadzono procesy nanoszenia warstw fazy S oraz przebadano ich skład chemiczny oraz fazowy. Wytypowano atomową emisyjną linię chromu (520,8 nm) jako czułą na zatruwanie źródła i użyteczną z punktu widzenia monitorowania procesu nanoszenia.

2

Miniature plasma generator made of low temperature co-fired ceramics (LTCC) for gas characterization using optical emission spectroscopy (OES)

Malecha K., Roguszczak H., Patela S., Golonka L.J.

Przegląd Elektrotechniczny

|

2014

|

R. 90, nr 9

69-72

EN

A novel miniature plasma generator made of low temperature co-fired ceramics (LTCC) is presented in this paper. The developed generator is composed of a stack of 9 ceramic tapes, has an optical fibre integrated into the structure and is consisted of an 8.7 x 3.5 mm2 plasma chamber placed between two 5 x 5 mm2 electrodes made of AgPd. Each electrode is separated from the plasma chamber by a single LTCC tape, forming a 660 μm thick gap. The shape of the plasma chamber and the channel for the optical fibre were cut in green LTCC tapes using an UV laser, and the electrodes were fabricated with the standard screen-print method. During the experiments, the plasma chamber was filled with an ambient air. The plasma was generated between AgPd electrodes connected to an AC power supply. The light of the air plasma was transmitted from the plasma chamber to the miniature spectrometer using the integrated optical fibre. The glow discharge in the air at atmospheric pressure was characterized by optical emission spectroscopy (OES).

PL

W artykule przedstawiono technologię miniaturowego generatora plazmy. Wspomniany układ został wykonany za pomocą techniki bazującej na niskotemperaturowej współwypalanej ceramice LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics). Urządzenie składało się z 9 warstw ceramiki LTCC. W skład opracowanego generatora wchodziły komora plazmowa o wymiarach 8,7 x 3,5 mm2 oraz dołączony do niej światłowód kwarcowy. Komora plazmowa umieszczona była pomiędzy dwiema elektrodami o wymiarach 5 x 5 mm2 wykonanymi ze stopu PdAg. Każda z elektrod została odizolowana od komory plazmowej za pomocą pojedynczej warstwy LTCC tworząc szczelinę o grubości 660 μm. Kształt komory plazmowej oraz kanału pod światłowód zostały wycięte w surowych foliach ceramicznych za pomocą lasera UV. Elektrody PdAg zostały naniesione na ceramikę LTCC metodą sitodruku. Podczas eksperymentów komora plazmowa wypełniona była powietrzem z otoczenia o ciśnieniu atmosferycznym. Plazma powietrza generowana była pomiędzy dwiema izolowanymi elektrodami zasilanymi napięciem zmiennym. Promieniowanie optyczne plazmy powietrza było transmitowane z komory plazmowej do miniaturowego spektrometru za pomocą zintegrowanego światłowodu. Obserwowane wyładowanie jarzeniowe w powietrzu analizowano metodą optycznej spektroskopii emisyjnej (OES).

3

Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych

Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2008

|

Vol. 49, nr 11

80-83

PL

W artykule przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, do wytwarzacienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano rzestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plazmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzegniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.

EN

Optoelectronic system dedicated for in-situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. The system uses spatially resolved optical emission spectroscopy OES and Raman spectroscopy. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and performance of the growing layer. Design of measurement systems coupled with CVD chamber by dedicated fiber-optic paths is described. Results of experimental works are presented and analysis of obtained data is given.

4

Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej

Wroczyński P., Gnyba M., Bogdanowicz R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2004

|

Vol. 45, nr 10

17-18

PL

Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania par gazowych, wspomaganego plazmą mikrofalową (uPACVD).Tor światłowodowy umożliwia sprzęgnięcie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne w zakresie światła widzialnego - bliskiej podczerwieni i zbadano zależność natężenia linii serii Balmera od parametrów procesu technologicznego.

EN

Optical Emission Spectroscopy (OES) was applied to in-situ investigation of hydrogen exciatation and ionization degree during Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (uPACVD) of thin diamond films. Fibre optic coupling between CVD chamber and spectroscopic system enables remote, non-invasive process monitoring. Authors made measurements in VIS-near UV range, thus investigating intensity of hydrogen lines assigned to Balmer serie as a function of CVD pocess parameters.