Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: optical in-situ monitoring

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Optoelektroniczny system przestrzennego monitoringu wzbudzenia plazmy w procesach syntezy optycznych warstw diamentopodobnych

Bogdanowicz R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2010

Vol. 51, nr 1

45-47

Przedmiotem pracy jest optoelektroniczny system do badania wzbudzenia plazmy mikrofalowej w procesie syntezy warstw DLC (ang. Diamond Like-Carbon). W komunikacie zaprezentowano budowę systemu do przestrzennego monitoringu stanu wzbudzenia plazmy podczas procesu CVD. System SR-OES (ang. Spatially Resolved Optical Emission Spectroscopy) umożliwia określanie rozkładu wzbudzenia cząstek w przestrzeni komory i na tej podstawie wybrania optymalnego położenia podłoża oraz prądów cewek ECR.

The main topic of article is optoelectronic system dedicated for plasma diagnostics during DLC layer synthesis. The setup of spatially resolved plasma excitation monitoring system is presented in this paper. SR-OES system enables investigations of distributions of species excitations in the area of chamber, what leads to optimal selection of substrate holder position and ECR coils configuration. The SR - OES monitoring results shows high concentrations of ionized species and non-linear progress of excitation and ionization reactions. It proves the previously obtained molecular modeling.

Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych

Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2008

Vol. 49, nr 11

80-83

W artykule przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, do wytwarzacienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano rzestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plazmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzegniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.

Optoelectronic system dedicated for in-situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. The system uses spatially resolved optical emission spectroscopy OES and Raman spectroscopy. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and performance of the growing layer. Design of measurement systems coupled with CVD chamber by dedicated fiber-optic paths is described. Results of experimental works are presented and analysis of obtained data is given.