Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Koncepcja zarządzania bezpieczeństwem dostaw wody w Górnośląskim Przedsiębiorstwie Wodociągów SA w Katowicach z wykorzystaniem zaawansowanych narzędzi informatycznych

Zimoch I., Czopik Ł.

Gaz, Woda i Technika Sanitarna

|

2018

|

Nr 3

111--115

PL

W niniejszej pracy zaproponowano metodykę wyznaczania obszarów wrażliwych na utratę bezpieczeństwa mikrobiologicznego wody mogącego być pochodną zmniejszenie stężenie dezynfektanta w wodzie transportowanej do konsumenta oraz jej wieku. W modelu badawczym wykorzystano zarówno dane z modelowania zachowania systemu w zmiennych warunkach eksploatacyjnych, jak i dane operacyjne pochodzące z baz danych systemu GIS, systemów SCADA, TelWin umożliwiającego rejestrację stężenia chloru wolnego, wartości przepływu w podsystemie dystrybucji wody.

EN

This paper presents a new developed methodology for determining areas sensitive to the loss of microbiological safety of water. Deterioration of microbiological quality can be an effect of reducing the disinfectant concentration in water delivered to the consumer as well as water age. The research model uses both data obtained as a results of simulation in the EPANET program of various operational states of the water supply system exploitation, and operational data from GIS, SCADA and TelWin system databases, allowing registration of free chlorine concentration, flow values in the water distribution subsystem.

2

Wybrane zagadnienia współpracy manipulatorów

Nieoczym A

Technologia i Automatyzacja Montażu

|

2013

|

nr 2

44—47

PL

Przestrzeń manipulacyjna ograniczona jest długością ramienia, jego kątem obrotu i wzniosu oraz kątem obrotu podstawy robota względem osi pionowej. Wyróżniamy tu obszar krytyczny będący częścią wspólną obszaru technologicznego dwu robotów oraz obszar pozakrytyczny. Dąży się do minimalizacji obszaru manipulacyjnego, który powinien być w maksymalnym stopniu wykorzystany. Kolejną czynnością podczas projektowania jest identyfikacja wymagań stawianych robotowi. Określana jest kinematyka ruchu ramienia oraz liczba stopni swobody. Odrzucenie zasad optymalizacji liczby stopni swobody powoduje zwiększenie gabarytów, masy i kosztów robota, zmniejszenie dokładności montażu, niezawodności robota, co ostatecznie prowadzi do gwałtownego spadku techniczno-ekonomicznej efektywności jego wykorzystania.

EN

Manipulation area of working cell encompasses technological area that is characterized by assembling operation processes. Such processes consist the following parts: a critical area that is a common part for two cooperating robots and a non-critical area. The spaces occupied by individual robots are limited by the length of an arm, its rotation and lift angle as well as by rotation angle of a robot base in relation to vertical axis. During an initial stage of designing it is necessary to identify the requirements that should be fulfilled by the robot. Depending on its purpose, the industrial robot can cover an area of one to seven degrees of acurator freedom. Rejection of the optimization principles concerning degrees of freedom results in an increase of overall dimensions, weight, and costs of the robot as well as it causes reduction of assembling accuracy and reliability of the robot. Such misfits lead finally to a violent decrease of technical and economic efficiency of the robot utilization.

3

Analiza topografii układów scalonych VLSI pod kątem ich produkowalności

Pleskacz W.A. W.A.

Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika

|

2009

|

z. 172

3-119

PL

W pracy poruszono szereg problemów dotyczących metod analizy topografii układów scalonych wielkiej skali integracji, stosowanych podczas projektowania pod kątem produkowalności (DFM). Położono szczególny nacisk na omówienie znaczenia i sposobów wykorzystania pojęcia obszarów krytycznych topografii masek, jako miary czułości układu scalonego na defekty produkcyjne. Przedstawiono nowy model uzysku produkcyjnego dla układów VLSI. W modelu tym zostały uwzględnione zjawiska nadtrawienia i niedotrawienia warstw, występujące w operacjach litograficznych. Wykazano, że zaniedbanie losowej natury rozrzutów procesu trawienia może prowadzić do powstania znaczącego błędu przy szacowaniu uzysku produkcyjnego. Zaproponowano również metodę szacowania uzysku produkcyjnego dla skalowanych topografii układów scalonych VLSI. Metoda ta umożliwia optymalne skalowanie projektów układów scalonych i pozwala na znaczne zredukowanie czasochłonnych obliczeniowo ekstrakcji funkcji obszarów krytycznych dla przeskalowanych topografii. Ze względu na znaczenie analizy obszarów krytycznych dla metod DFM, w pracy zaprezentowano oryginalny algorytm ekstrakcji obszarów krytycznych na rozwarcia w układach scalonych. W algorytmie tym zostały uwzględnione obszary krytyczne zarówno dla ścieżek przewodzących, jak i dla kontaktów elektrycznych do pozostałych warstw przewodzących. Wprowadzono i omówiono znaczenie nowej koncepcji rejonów kontaktowych dla kontaktów typu Contact Cut i Via. Zaproponowany algorytm umożliwia analizę dużych układów scalonych, w tym układów o topografii różnej od geometrii typu Manhattan. Zademonstrowany przykład analizy rzeczywistej topografii dużego układu scalonego pokazuje, że ekstrakcja obszarów krytycznych dla rozwarć może być wykonana dla przemysłowych układów VLSI w akceptowalnym czasie. Obszerna część pracy została poświęcona zagadnieniu jakości testowania układów scalonych w kontekście metod generacji wektorów testowych, uwzględniających projekt topografii, jak i statystykę występowania defektów produkcyjnych. Przedstawiono metodę charakteryzacji kombinacyjnych komórek standardowych i bloków funkcjonalnych CMOS dla testowania napięciowego i prądowego iddq, opartego na fizycznym modelu uszkodzeń. Zaproponowana metoda umożliwia znalezienie rodzajów defektów, które mogą wystapić w rzeczywistym układzie scalonym, określenie prawdopodobieństwa ich wystąpienia oraz znalezienie wektorów testowych wykrywających te uszkodzenia.

EN

The work raised a number of problems relating to methods of topography analysis of very large scale integrated circuits (IC) used during designing for manufacturability (DFM). Particular emphasis was placed on discussion of the importance and usage of critical areas concept, as a measure of IC layout sensitivity to manufacturing defects. A new manufacturing yield model for VLSI circuits was presented. In this model the phenomenon of over and under etching of the conducting layers, occurring in lithography operations, was taken into account. It has been shown that neglecting the random nature of etching variations can lead to substantial error in yield estimation. The yield estimation approach to layout scaling of VLSI integrated circuit has been proposed as well. This method enables optimal downscaling of the IC design. It also allows to significantly reduce time-consuming extraction of the critical area functions for scaled layouts. Because of the importance of critical areas analysis for DFM methods, the work presents an original algorithm for the extraction of critical areas for opens in integrated circuits. In this algorithm critical areas both for conducting paths and for electrical contacts to the other conducting layers have been considered. The new concept of the Contact/Via contacting regions has been introduced and its relevance has been discussed. The proposed algorithm allows analysis of large ICs and ICs with non-Manhattan geometry. The demonstrated example of realistic layout analysis of a large integrated circuit shows that the extraction of critical areas for opens can be done for industrial VLSI circuits within an acceptable time. An extensive part of the work has been devoted to the issue of integrated circuits testing quality in the context of test vector generation methods taking into account the layout design, as well as manufacturing defect statistics. A characterization methodology of CMOS combinational standard cells and functional blocks for defect based testing and iddq testing has been presented. The proposed methodology allows to find the types of faults that may occur in a real IC, to determine their probabilities, and to find the input test vectors that detect these faults.

4

Związki powierzchniowo czynne z grupy polioksyetylenooli i polioksyetylenopolioli. Cz. II. Rozpuszczalność idealna i parametr rozpuszczalności a aktywność powierzchniowa produktów addycji tlenku etylenu do kwasu stearynowego i oleju rycynowego

Zgoda M. M., Kałodziejczyk M., Redliński A.

Polimery

|

1998

|

T. 43, nr 10

612-619

PL

Przedmiotem badań były niejonowe związki powierzchniowo czynne (ZPC) stanowiące produkty addycji tlenku etylenu do kwasu stearynowego (Rokacety szeregu S) lub oleju rycynowego (Rokacety szeregu R). Analizowane ZPC scharakteryzowano strukturalnym poziomem równowagi hydrofilowo-lipofilowej (HLB), ilorazem H/Lmic, krytycznym stężeniem micelarnym (cmc) oraz napięciem powierzchniowym w obszarze krytycznym (σ cmc @25°C). Obliczenie wartości indeksów topologicznych ΣIC i ΣSIC oraz parametru rozpuszczalności idealnej (-logx2i) dało moż-liwość aplikacyjnego oszacowania przedziału stężeń powyższych ZPC, w którym występują właściwości emulgujące i solubilizujące. Na podstawie badań wiskozymetrycznych wodnych i niewodnych (n-propanolowych) roztworów Rokacetów określono wartości granicznej liczby lepkościowej (η), lepkościowe średnich ciężarów cząsteczkowych (Mη), objętości efektywnej (Ω) i hydrodynamicznych promieni (Robs.) miceli (tabela 4). Właściwości charakteryzujące aktywność powierzchniową Ro-kacetów porównano z odpowiednimi właściwościami impor-towanych niejonowych ZPC szeregu Brij. Uzyskane wyniki dowiodły możliwości zastosowania Rokacetów szeregów R oraz S jako substancji pomocniczych - składowych formulacyjnych w wybranych postaciach leków i kosmetyków podawanych na skórę.

EN

Polish nonionic surfactans, viz., oxyethylenated derivatives of stearic acid (Rokacets S) and of castor oil (Rokacets R) were characterized in terms of the structural level of the hydrophilic-lipophilic equilibrium (HLB), the hydrophile/lipophile segments ratio (H/L)MIC, critical micellar concentration (cmc), and surface tension at cmc (σ cmc @25°C). The topological indices, ΣIC and ΣSIC, and the solubility parameter allowed to estimate the concentration range of the Rokacets within which they exhibit the emulsifying and solubi-lizing properties. Viscosimetric studies of aqueous and n-propanolic solutions of the Rokacets allowed to establish the limiting viscosity number (η), vis-cosity-average molecular weights (Mη), effective volume (Ω), and the hydrodynamic micelle radius (ROBS) (Table 4). The surface activity of the Rokacets was compared with that of the Brij (imported) non-ionic surfactants. Results show the Rokacets to be applicable as accessory components of selected dermatological drugs and cometics.