PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 5

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  obliczanie opraw oświetleniowych
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Weryfikacja metody obliczania odbłyśników opraw oświetleniowych
Wandachowicz K., Kuczko W.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2014
|
R. 90, nr 1
281--284
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskanie na zadanej powierzchni rozkładu natężenia oświetlenia o założonej równomierności. Obliczenia wykonano z wykorzystaniem optymalizacji opierającej się na algorytmie genetycznym. Wykonana z zastosowaniem technik skanowania i wydruku 3D weryfikacja potwierdza przydatność opracowanych metod obliczania i optymalizacji odbłyśników opraw oświetleniowych.
EN
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The genetic algorithm optimization method with linear inequality constraints was used. Using the techniques of scanning and 3D printing verification was carried out, which confirmed the suitability of the developed methods for calculating and optimizing reflector luminaires.
2
Content available remote Mixed reflection modeling based on a superposition of specular reflections
Kubiak K.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2014
|
R. 90, nr 12
79--82
EN
The article proposes an alternative to the currently used method for calculations of the lighting effect (luminance distribution) derived from the flat surface of the reflector with mixed reflection (with features of both specular and diffuse reflection). The calculations used the ability to replace the mixed reflection as a superposition of specular reflections. Individual specular reflections are derived from the same reflection surface, but taking into account the specific deviation of the reflected beam from the specular reflection law direction, and using the specified weighting factor.
PL
W artykule zaproponowano alternatywną, do obecnie stosowanych, metodę, pozwalającą na obliczenie efektu oświetleniowego (rozkładu luminancji) pochodzącego od płaskiej powierzchni odbłyśnika o odbiciu kierunkowo-rozproszonym (o cechach zarówno odbicia kierunkowego jak i rozproszonego). W obliczeniach wykorzystana jest możliwość zastąpienia odbicia kierunkowo-rozproszonego superpozycją odbić kierunkowych. Poszczególne odbicia kierunkowe pochodzą od tej samej powierzchni odbłyśnika, ale z uwzględnieniem określonego odchylenia wiązki odbitej od kierunku zgodnego z prawem odbicia kierunkowego, a także zastosowaniem określonego współczynnika skalującego.
3
Content available Optymalizacja kształtu odbłyśnika z wykorzystaniem różnych postaci funkcji celu
Wandachowicz K.
Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering
|
2014
|
No. 79
205--213
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskania jak największej wartości średniego natężenia oświetlenia oraz równomierności oświetlenia. Obliczenia optymalizacyjne przeprowadzono z zastosowaniem dwóch, różnych postaci funkcji celu.
EN
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector profile that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The evolutiony algorithm with different forms of objective function was used.
4
Content available remote An optimisation of the reflector shape subject to the linear inequalities
Wandachowicz K.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2013
|
R. 89, nr 7
218--222
EN
The paper presents the results of an investigation into the calculation of a specular reflector which ensures a predetermined uniformity of illuminance distribution on a given surface. Optimisation calculations were carried out with a genetic algorithm with constraints of the searched area.
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskanie rozkładu natężenia oświetlenia o zakładanej równomierności na zadanej powierzchni. Obliczenia wykonano z wykorzystaniem optymalizacji opierającej się na algorytmie genetycznym, w którym zastosowano ograniczenia liniowe.
5
Content available remote Optymalizacja kształtu odbłyśnika zapewniającego uzyskanie zakładanego poziomu równomierności oświetlenia
Wandachowicz K.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2012
|
R. 88, nr 5a
181-183
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskanie równomiernego rozkładu natężenia oświetlenia na zadanej powierzchni. Obliczenia wykonano z wykorzystaniem optymalizacji opierającej się na algorytmie genetycznym.
EN
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The genetic algorithm optimization methods were used.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.