Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Wpływ techniki nanoszenia warstw TiO2 na parametry fotowoltaiczne krzemowych ogniw słonecznych

Pich Robert, Bogdanowicz Krzysztof A., Gonciarz Agnieszka, Januszko Adam, Iwan Agnieszka

Przegląd Elektrotechniczny

|

2022

|

R. 98, nr 1

177--1179

PL

W pracy przedstawiono trzy techniki nanoszenia warstwy TiO2 jako powłoki samoczyszczącej na panelach fotowoltaicznych zainstalowanych na ekranach akustycznych, ułożonych wzdłuż linii kolejowych. Ogniwa słoneczne wraz z warstwą TiO2 poddano w warunkach laboratoryjnych badaniom wpływu naniesionych warstw na wartość parametrów fotowoltaicznych.

EN

The paper presents three techniques of obtaining TiO2 layers as the self-cleaning film on photovoltaic panels installed on acoustic screens arranged along railway lines. The solar cells with TiO2 layers were investigated in laboratory testing of the dependence of the applied layers on photovoltaic parameters.

2

Badania wpływu obróbki wibrościernej na warstwy nanoszone techniką ESD

Spadło S., Bańkowski D., Młynarczyk P.

Mechanik

|

2018

|

R. 91, nr 11

1029--1031

PL

Artykuł zawiera propozycję zastosowania obróbki ścierniwem luźnym w wibrujących pojemnikach do wygładzania powierzchni nanoszonych techniką ESD. W badaniach nanoszono warstwę elektrodą wolframową na podłożu stalowym. Następnie przeprowadzono obróbkę wibrościerną. Zbadano SGP przed obróbką wibracyjną i po niej. Ponadto zbadano skład chemiczny oraz grubość nanoszonych warstw.

EN

The article presents the proposal of using abrasive treatment in vibrating containers for surface treatment applied with the Electro Spark Deposition technique. In tests on a carbon steel the layer was applied with a tungsten electrode. After the tungsten layers were applied, a vibro-abrasive treatment was carried out. Changes in the geometrical structure of the surface of the deposited layers before and after vibratory processing were investigated. In addition, the chemical composition and the thickness of the coatings were examined.

3

Próba modyfikacji powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego poprzez zmianę parametrów podłoża

Grudniewski T.

Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture

|

2016

|

z. 63, nr 4

177--184

PL

Sputtering magnetronowy jest techniką napylania warstw cienkich znajdującą coraz większe zastosowanie w procesach wytwarzania elektroniki i ogniw fotowoltaicznych [1,2]. Celem prezentowanych w artykule prac badawczych, jest analiza możliwości zastosowania podłoża alternatywnego do powszechnie stosowanych i tym samym osiągnięcie zmian topografii warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego. Zaburzenie topografii podłoża może skutkować większym uporządkowaniem struktury warstwy, co oznacza bardziej jednolitą powierzchnię, lub zjawiskiem całkowicie odwrotnym. Oba rezultaty są pożądane z punktu widzenia zastosowań produkcyjnych. Z jednej strony poszukuje się cienkich i jednolitych warstw, a z drugiej warstw o zmodyfikowanej topografii. Według autora, modyfikacja topografii warstw pochłaniających promieniowanie, może doprowadzić do zwiększenia powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego a co za tym idzie zwiększyć jego wydajność [3]. W czasie eksperymentów autor używał jako podłoża standardowego szkła laboratoryjnego (float) oraz laminatu (papier z żywicą). Dokonano serii naniesień warstw cienkich, celem otrzymania kompletnego ogniwa. Ogniwa na szkle jak i na laminacie były wykonane w tych samych warunkach i parametrach kolejnych procesów. Kolejne warstwy wchodzące w skład budowy ogniwa były tak nanoszone, by istniała możliwość ich późniejszej analizy (stosowano odpowiednie przesłony). Po wykonaniu ogniw, została sprawdzona ich wydajność kwantowa, którą odniesiono do obserwacji otrzymanych w wyniku skanowania AFM kolejnych warstw.

EN

Magnetron Sputtering can create thin layers with can be used for electronic elements or photovoltaic cells [1,2]. The objective presented in the article concern the possibility of using photovoltaic cells substrates alternative to the commonly used. The author hypothesizes that the changes in the topography of the layers obtained by the sputtering magnetron are the consequence of disorders to the topography of the substrate.This disorder may result in a greater re-arrangement of the layer structure, leading to a more uniform after-surface, a phenomenon completely the opposite of what was thought.Both results are desirable in production applications. On the other hand, the most sought after result is the thin, uniform layers being the other layers of the modified topography. Disturbed layers can increase the active surface of the photovoltaic cell and thus increase its efficiency [3]. During the experiments, the author used as a base standard laboratory glass (float) and the laminate (paper with resin). There have been a series of thin layers of annotations, in order to obtain a complete cell. Cells on glass and the laminate was manufactured under the same conditions and parameters of other processes. Successive layers included in the construction of the cells to be applied so that it is possible subsequent analysis (using the appropriate aperture). After the cells were tested for quantum efficiency, which was related to the observation obtained by scanning successive layers of AFM.

4

Analiza własności warstw CdS w zależności od parametrów procesu wytwarzania z wykorzystaniem napylania plazmowego

Grudniewski T., Czernik S., Lubańska Z., Chodyka M., Nitychoruk J.

Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture

|

2016

|

z. 63, nr 4

185--192

PL

W prezentowanym artykule, autorzy skupili się na analizie zmian wydajności ogniw fotowoltaicznych, których jednym z kluczowych składników jest CdS. Wykorzystując urządzenie do (napylania) sputteringu magnetronowego, autorzy podjęli próbę modyfikacji wybranych składników procesu nanoszenia warstw materiału. Celem wskazanego działania było zwiększenie wydajności ogniw, usprawnienie oraz obniżenie kosztów procesu produkcyjnego. Autorzy przebadali grupę wytworzonych przez siebie w różnych (wskazanych eksperymentem) warunkach ogniw, analizując ich wydajność w przypadku światła białego, wydajność względem długości fali oświetlającej oraz odnieśli otrzymane wyniki do zmian w topografii warstw CdS. Domniemywano, że podobnie jak w przypadku innych materiałów (autorzy we wcześniejszych pracach zajmowali się poprawą parametrów elektro-optycznych podłoży przewodzących), utrzymywanie procesu w możliwie wysokiej temperaturze spowoduje lepsze uporządkowanie struktury CdS a tym samym poprawę parametrów elektro-optycznych. Postanowiono zbadać, czy podobna zależność wpłynie na wydajność ogniwa fotowoltaicznego. Równolegle autorzy pracują nad technikami mającymi zmodyfikować topografię ogniw fotowoltaicznych w celu zwiększenia powierzchni czynnej. Postanowiono zatem zbadać przedstawione powyżej zagadnienia w możliwie najszerszy sposób.

EN

In this paper, the authors focused on the analysis of changes in the efficiency of photovoltaic cells, where one of the main components is CdS. Using the magnetron sputtering device, the authors attempted to modify the selected components during applying layers of material. The purpose of that experiment was to increase cell efficiency, streamlining and reducing the cost of the production process. The authors studied a group of 27 prepared photovoltaic cells, created in different (indicated by experiment) process conditions. The different effects was examined: the cell efficiency in the case of white light illumination, efficiency in relation to the wavelength of the illumination, and also the obtained results to changes in the topography of the CdS layer. It was alleged that, as in the case of other materials (the authors of the earlier work dealt with the improvement in performance electro-optical conductive substrates), keeping the process as possible high temperature will result in a better structuring of CdS and thus improving the performance of electro-optical devices. It was decided to investigate whether a similar relationship will affect the performance of the photovoltaic cell. In parallel, the authors are working on techniques having to modify the topography of photovoltaic cells to increase the active surface. It was therefore decided to examine the above issues in the widest possible way.

5

Analiza właściwości struktur otrzymanych w procesie nanoszenia warstw metodą sputteringu magnetronowego z wykorzystaniem targetów o modyfikowanym składzie

Lubańska Z., Grudniewski T.

Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture

|

2014

|

z. 61, nr 3/II

329--337

PL

Wykorzystanie sputterigu jako metody nanoszenia cienkich warstw materiałów wykorzystywanych w produkcji paneli fotowoltaicznych jest powszechnie znane. W sferze eksperymentalnej częstym problemem pozostaje ekonomiczne źródło pozyskiwania targetów o modyfikowanym składzie (wieloskładnikowych) – szczególnie targetów niezbędnych do wykonania pojedynczych eksperymentów. Szczególnie problem ten jest dotkliwy w urządzeniach wykorzystujących targety o dużych rozmiarach, takich jak Line 440 firmy Alliance Concept. Rozmiar targetu w Line 440 to 38 x 13 cm i sporadycznie używana jest powierzchnia całego targetu. Uwarunkowania techniczne umieszczania targetów (w urządzeniach w konfiguracji odwróconej, gdzie target znajduje się nad napylaną próbką), koncepcji ich wytwarzania, statystyk dystrybucji materiału oraz wprowadzania niepożądanych pierwiastków zanieczyszczeń, wymagała opracowania i przygotowania oddzielnego, poświęconego tylko tej tematyce procesu badawczego. Ważne jest, że konfiguracja odwrócona magnetronu, uniemożliwia zastosowanie dodatków w postaci np. sprasowanych tabletek z materiałem. Należy nadmienić, że próba stworzenia własnych targetów do pojedynczych napyleń była rzeczą priorytetową w przedstawionych badaniach. Przeanalizowano możliwość zastosowania siatki jako elementu umożliwiającego wybijanie dodatkowego pierwiastka znajdującego się pod stworzonym targetem wieloskładnikowym. W niniejszej pracy został zawarty opis prób polegających na wytworzeniu własnych targetów wieloskładnikowych oraz metod ich montażu. Dodatkowo wykonano szczegółową analizę składu napylonych powłok, przeanalizowano możliwość mieszania się składników pochodzących z targetu w wytworzonej cienkiej warstwie oraz dystrybucję pierwiastków targetu w obrębie komory magnetronu.

EN

The magnetron sputtering method is well known as a technique for thin layers preparation. Obtained photosensitive thin layers can find usage in many fields of electronic and photovoltaic technology. Mainly prepared experiments are based on material targets provided by specialized manufacturers – with defined composition. Size of the targets define costs of its purchase specially when experiments do not provide usage of the prepared target more then once. This problem is important with devices equipped by large size targets - such as Alliance Concept Line 440 (38 x 13 cm target size). The common difficulty in experimental applications is a method of preparation of the targets with modified composition - specially multi-component ones. The technical specifications for targets (in used by presented experiments up-right magnetron construction), the concept of its preparation (compressed tablets, sputtered structures), material distribution statistics (aperture, mouting method), impurity elements – creates very interesting issue in own targets preparation and obtained layers analysis. Attempt to create targets for individual layer composition in Line 440, seemed very desirable thing and it was a priority in the presented research. In the present work has been included description of the prepared tests involving the creation of their own multiple targets and obtained structures analysis.

6

Application of relational database concerning processes and effects of surface layers deposition

Dobrodziej J., Ratajski J., Michalski J.

Problemy Eksploatacji

|

2006

|

nr 2

127-138

EN

The article presents the application of a database meant for the collection of information related to technological processes of constituting surface layers. A set-theoretical model of processes and a model-based logical structure of the database are shown. The application to retrieve the information stored in the database in case of multidimensional, variable space of parameters for layer deposition processes is presented. Some functional qualities of application for acquisition, searching and fusion of data regarding nitriding, carburizing, PVD and hybrid processes are described.

PL

W artykule zaprezentowano aplikację bazy danych przeznaczoną do gromadzenia informacji o procesach technologicznych konstytuowania się warstw wierzchnich. Przedstawiono model teoriomnogościowy procesów oraz strukturę logiczną bazy danych opracowaną na podstawie modelu. Zaprezentowano aplikację do obsługi bazy danych w przypadku wielowymiarowej, zmiennej przestrzeni parametrów procesów nanoszenia warstw. Omówiono możliwości użytkowe zastosowania opracowanej aplikacji do gromadzenia, przeszukiwania i fuzji danych o procesach azotowania, nawęglania, PVD, PAPVD oraz procesach hybrydowych.