Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!
Sesja wygasła!
Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: nanokrystaliczna struktura

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Właściwości powierzchni aktywnych powłok cienkowarstwowych na bazie TiO₂

Domaradzki J., Wojcieszak D., Mazur M., Kaczmarek D., Poniedziałek A.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2014

Vol. 55, nr 10

43-46

W pracy przedstawiono wpływ wygrzewania na właściwości powierzchni aktywnych cienkich warstw na bazie TiO₂ z dodatkiem V, Ta i Nb, które wytworzono metodą rozpylania magnetronowego. Warstwy te były dodatkowo wygrzewane w temperaturze 400°C i 600°C. Analiza składu materiałowego metodą mikroanalizy rentgenowskiej pokazała, że cienkie warstwy zawierały 12,5% at. Ti, 11,8% at. V, 5,2% at. Ta i 1,4% at. Nb. Właściwości strukturalne powłok (Ti, V, Ta, Nb)Ox zbadano metodą dyfrakcji rentgenowskiej. Stwierdzono, że bezpośrednio po naniesieniu cienka warstwa była amorficzna, a jej dodatkowe wygrzewanie w 400°C spowodowało wykrystalizowanie fazy TiO₂-rutylu, zbudowanej z krystalitów o średnim rozmiarze wynoszącym ok. 25 nm. Z kolei wzrost temperatury wygrzewania do 600°C pozwolił dodatkowo uzyskać formy TiO₂-anatazu i β-V₂O₅, a także zwiększyć rozmiary krystalitów do ok. 29 ÷ 45 nm. Wygrzewanie miało również wpływ na wzrost chropowatości i zwilżalności powierzchni badanych warstw. Oprócz tego, badania właściwości fizykochemicznych powierzchni metodą XPS pokazały, że zarówno w niewygrzewanej, jak i w wygrzewanych warstwach obecne były takie związki jak TiO₂, V₂O₅, Ta₂O₅ oraz Nb₂O₅.

In this work influence of annealing on the surface properties of active (Ti, V, Ta, Nb)Ox thin films prepared by magnetron sputtering has been described. These films were also additionally annealed at 400°C and 600°C Material composition analysis carried out by X-ray microanalysis has revealed that in the oxide film was 12.5% at. of Ti, 11.8% at. of V, 5.2% at. of Ta and 1.4% at of Nb. The structural properties of (Ti, V, Ta, Nb)Ox coatings were examined by X-ray diffraction. It was found that, directly after deposition thin film was amorphous and after additional annealing at 400°C crystallization of TiO₂-rutile form, built from crystallites in average size of about 25 nm, was obtained. The increase of annealing temperature to 600°C allow on formation of other crystal forms like of TiO₂-anatase and β-V₂O₅, and increase of crystallite sizes up to about 29 – 45 nm was observed. Annealing process had also an effect on the growth of surface roughness and wettability of examined films. In addition, the study of physicochemical properties of the surface by XPS showed that in all (as-deposited and annealed) films such compounds as TiO₂, V₂O₅, Ta₂O₅ and Nb₂O₅ were present.

Wpływ domieszkowania europem na właściwości optyczne i fizyko-chemiczne powierzchni cienkich warstw Ti02

Wojcieszak D.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2013

Vol. 54, nr 7

11-14

W niniejszej pracy przedstawiono wpływ domieszkowania europem na właściwości optyczne oraz fizyko-chemiczne powierzchni cienkich warstw Ti02. Cienkie warstwy wytworzono wysokoenergetyczną metodą rozpylania magnetronowego i dodatkowo wygrzewano w temperaturze 400°C i 800°C. Badania wykonane metodami XRD i AFM pokazały, że warstwy domieszkowane europem były nanokrystaliczne i miały strukturę TiO2 - anatazu. Były one stabilne nawet po wygrzewaniu w temperaturze 800°C. Natomiast warstwa niedomieszkowanego Ti02 miała strukturę rutylu już bezpośrednio po naniesieniu (bez dodatkowego wygrzewania), co jest typowe dla procesu wysokoenergetycznego. Wygrzewanie spowodowało m.in. wzrost wielkości krystalitów z około 18 do 28 nm. Oprócz tego stwierdzono, że poziom adsorpcji powierzchniowej oraz intensywność fotoluminescencji zależał od rozmiaru krystalitów z których były zbudowane cienkie warstwy Ti02:Eu. Wyniki badań pokazały, że optymalne do uzyskania silnej PL oraz dużego poziomu adsorpcji powierzchniowej (grup OH oraz cząstek H20) są krystality Ti02:Eu o rozmiarze około 22 nm.

In this work influence of Eu-doping on optical an physicochemical properties of the surface of TiO2 thin films have been described. Thin films were manufactured by magnetron sputtering method and additionally annealed at 400°C and 800°C. Structural investigations with the aid of XRD and AFM methods have shown that doping with europium results in receiving of nanocrystalline films with the Ti02 - anatase structure. They were stable even after annealing at 800°C. Although undoped Ti02 matrix had rutile structure directly after deposition (without additional annealing), which is typical for high energy sputtering process. Annealing caused increase of crystallites size from about 18 to 28 nm. Besides, the level of surface adsorption and the intensity of photoluminescence was dependent from the size of crystallites of Ti02:Eu. It was found that the crystallites in size of about 22 nm are optimal to obtain strong PL and high adsorption (of OH- and H20).