Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: nanoimprint lithography

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Procesy wytwarzania periodycznych struktur o wymiarach nanometrowych w GaN przy użyciu technik litografii NIL

Ekielski M., Juchniewcz M., Piotrowska A.

Przegląd Elektrotechniczny

2013

R. 89, nr 10

57-60

Omówiono podstawy technik litografii z wykorzystaniem procesu nanostemplowania (NIL), dokonano przeglądu materiałów do wytwarzania stempli oraz rezystów do kształtowania wzorów, przedyskutowano najważniejsze problemy występujące przy implementacji procesów NIL w praktyce. Zaprezentowano wyniki prac własnych nad wytwarzaniem periodycznych nanostruktur GaN o wymiarach krytycznych od 50 do 300 nm przy pomocy technik Th-NIL oraz UV-NIL z użyciem replik polimerowych oraz trawienia ICP w plazmie BCl3/Cl2.

Fundamentals of Nanoimprint Lithography (NIL) have been presented, stamp materials, resists and fabrication processes have been overviewed, main problems encountered in implementing NIL in practice have been discussed. Recent results on fabrication periodic GaN nanostructures with critical dimensions ranging from 50 to 300 nm by using Th-NIL and UV-NIL combined with polymer replicas and ICP etching in BCl3/Cl2 plasma have been presented.

Wytwarzanie submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania

Ekielski M., Juchniewicz M., Pasternak I., Piotrowska A.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2010

Vol. 51, nr 9

106-108

Praca prezentuje wyniki dotyczące wytwarzania submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania. Eksperyment przeprowadzono na 3" podłożach krzemowych oraz 5×5 mm podłożach kwarcowych. Zaprezentowano dwa warianty techniki nanostemplowania tj. termiczny i UV oraz omówiono podstawowe parametry charakteryzujące jakość odwzorowania.

We report on submicrometer pattern fabrication using nanoimprint lithography. The experiments were performed on 3" silicon and 5×5 mm quartz substrates. We demonstrate two modes of nanoimprint lithography i.e. thermal and UV, and discuss the parameters determining the quality of pattern replication.