Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  multilayer AlCrTiN/TiN coatings
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
Nanostructured multilayered TiN/ZrN coatings were fabricated using vacuum-arc deposition method. Amount of layers was 134-533; average bilayer thickness was 20-125 nm depending on deposition conditions. Good planarity of nanoscale bilayers were observed. Regularities of phase-structure changes in surface layers under the influence of aggressive oxygen atmosphere and high temperature (700 0С) annealing were established as a model of critical working conditions. Bilayer thickness influence on hardness was explored. Maximum hardness was 42 GPa.
PL
Nanostrukturalne wielowarstwowe powłoki TiN/ZrN otrzymano używając metody próżniowo-łukowego osadzania. Ilość warstw wynosiła 134-533; średnia grubość dwuwarstwowa wynosiła 20-125 nm zależnie od warunków osadzania. Zaobserwowano dobrą planarność podwójnych warstw w nanoskali. Określono prawidłowości zmian struktury fazowej w warstwach powierzchniowych pod wpływem agresywnej atmosfery utleniającej oraz wysokiej temperatury (700 0С) wygrzewania jako model krytycznych warunków pracy. Zbadano wpływ grubości podwójnych warstw na twardość. Maksymalna twardość wynosiła 42 GPa.
PL
W artykule przedstawiono wyniki badania wpływu pulsacyjnej polaryzacji podłoża na wybrane właściwości wielowarstwowych powłok AlCrTiN/TiN, osadzanych metodą łukowo-próżniową na stopie odlewniczym o obniżonej odporności termicznej. Analiza wyników wykazała, że powłoki AlCrTiN/TiN osadzone na stopie AZ91D z zastosowaniem pulsacyjnej polaryzacji podłoża charakteryzują się - w porównaniu z powłokami wytworzonymi z wykorzystaniem stałego ujemnego napięcia polaryzacji - porównywalną lub wyższą twardością, adhezją oraz mniejszym zdefektowaniem powierzchni. Ponadto wykorzystanie pulsacyjnego napięcia polaryzacji pozwala obniżyć temperaturę pokrywanych podłoży nawet o 20%.
EN
The authors present the results of testing an effect of pulse bias voltage on the selected properties of the multilayer AlCrTiN/TiN coatings, which were deposited by the cathodic arc process on a cast magnesium alloy having a lowered thermal resistance. The analysis of the results obtained shows that the AlCrTiN/TiN coatings deposited on the AZ91D alloy using a pulse bias voltage have a similar or higher hardness and adhesion also fewer surface defects when compared to coatings deposited applying a dc negative bias voltage. Moreover, for the cathodic arc deposition using pulse bias voltage, the temperature of the substrate can be reduced by even up to 20%.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.