Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: mikroskopia sił magnetycznych

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Application of the Autocorrelation Function and Fractal Geometry Methods for Analysis of MFM Images

Bramowicz M., Kulesza S., Czaja P., Maziarz W.

Archives of Metallurgy and Materials

2014

Vol. 59, iss. 2

451--457

Presented work is focused on the use of correlation methods for numerical analysis of magnetic stray field over the surface of materials. Obtained results extend our previous findings about application of the autocorrelation function and the fractal analysis for characterization of magnetic surfaces. Several domain images are recorded at various tip-sample gaps (i.e. the lift heights), and then their average widths were extrapolated down to the zero distance in order to estimate the width seen right on the surface. Apart from that, fractal parameters were derived from autocorrelation function, which turned out to be sensitive to the lift height, and might constitute universal measure (the critical lift height), above which the MFM signal became dominated by thermal noises and non-magnetic residual interactions.

Niniejsza praca dotyczy zastosowania metod korelacyjnych do numerycznej analizy obrazów rozkładu pola magnetycznego emitowanego z obszarów spontanicznego namagnesowania. W pracy przedstawiono kontynuację badań nad zastosowaniem funkcji autokorelacji oraz metod analizy fraktalnej w badaniach struktury domenowej oraz charakterystyki emitowanego z nich pola magnetycznego. Wyniki badań wykazują zależność mierzonej metodami mikroskopii sił magnetycznych (MFM) szerokości domen od wysokości skanowania nad badaną powierzchnią, sugerując przeprowadzanie serii pomiarów na różnych wysokościach (h), ich aproksymację z następną ekstrapolacją do powierzchni (h=0). Przeprowadzona analiza fraktalna, wskazuje na możliwość jej aplikacji do charakterystyki zmian sygnału magnetycznego rejestrowanego przez MFM. Pozwala ona również na wyznaczenie wysokości krytycznej (hkr), na której sygnałem dominującym stają się nakładające się na sygnał magnetyczny pozostałości niemagnetycznych interakcji między igłą sondy i badaną powierzchnią, stanowiące rejestrowany przez MFM szum.

Nanoskopowa analiza orientacji domen magnetycznych z wykorzystaniem technik bliskiego pola

Ozimek M., Sikora A., Goworska-Koniarek D., Wilczyński W.

Przegląd Elektrotechniczny

2010

R. 86, nr 4

72-74

Cienkie warstwy NiFe otrzymano na szkle kwarcowym za pomocą impulsowego rozpylania magnetronowego. Proces nakładania prowadzono przy stałej mocy (550 W) i różnym ciśnieniu gazu roboczego (0,4, 1,0, 4,0 Pa). Zbadano strukturę domenową otrzymanych warstw za pomocą mikroskopii sił magnetycznych (MFM). Grubość powłok zawierała się w przedziale od 80 do 150 nm.

NiFe thin films deposited onto Si substrate at room temperature via impulse magnetron sputtering. Magnetron deposition was carried out in sputtering power 550 W and different argon pressure (0.4, 1.0, 4.0 Pa). The ferromagnetic layers thicknesses were 80, 150 and 120 nm respectively. The samples were characterized by X-Ray diffraction. Effect of sputtering parameters on domain structure, as explored by magnetic force microscopy (MFM), was focused. The investigation showed a variety of magnetic domain microstructures