Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  metoda reaktywnego rozpylania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
Badania nad domieszkowanym cyną tlenkiem indu (ITO) są od wielu lat stymulowane potrzebą równoległego optymalizowania elektrycznych, optycznych i mechanicznych własności, jak również nowym wyzwaniem związanym z osadzaniem warstw na elastycznych plastikowych podłożach. W prezentowanej pracy systematycznie badano warstwy ITO osadzane metodą reaktywnego rozpylania z targetu będącego stopem indu i cyny. Zostało pokazane, że dodatkowa polaryzacja podłoża pozwala na efektywną kontrole poziomu naprężeń jak również struktury krystalicznej i kompozycji. Wolne od naprężeń warstwy posiadają wysoką transmitancje (>80%) i przewodnictwo (2 x 103 S/cm) były osadzone przy umiarkowanym bombardowaniem jonów. Wywołana jonami zmiana współczynnika załamania, współczynnika pochłaniania i ich wskroś profilu została ujawniona przy użyciu ellipsometru i spektrofotometru. Dyskutuje możliwy mechanizm wpływu bombardowania jonów i innych odnoszących się do plazmy zjawisk na modyfikacje własności warstw.
EN
Research on tin doped indium oxide (ITO) has for many years been stimulated by the need to simultaneously optimize the electrical, optical and mechanical properties, and by new challenges related to the deposition on flexible plastic substrates. In the present work, I systematically studied ITO films deposited by reactive sputtering from an indium-tin alloy target. I found that additional substrate biasing allow one to effectively control the level of stress as well as its crystalline structure and composition. Stress-free films possessing high transparency (>80%) and conductivity (2 x 103 S/cm) were deposited under moderate ion bombardment. Ion-induced changes in the refractive index, extinction coefficient, and their depth profiles were revealed by spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry. I discuss possible mechanisms related to the modification of film properties due to ion bombardment and other plasma-based phenomena.
PL
Jednowarstwowe powłoki ceramiczne oraz wielowarstwowe powłoki ceramiczno/metalowe naniesiono na podłoże ze stopu miedzi z cynkiem (CuZn40Pb2) metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego. Zbadano powłoki 1, 15 i 150-warstwowe Ti/CrN, Ti/TiAlN, Ti/ZrN, Mo/TiAlN. W celu zwiększenia adhezji w przypadku powłok jednowarstwowych wstępnie naniesiono cienką warstwę czystego Ti lub Mo. W pracy wykazano, że optymalne własności mechaniczne i trybologiczne oraz odporność na zużycie ścierne uzyskano dla powłok jednowarstwowych, natomiast wzrost liczby warstw do 15 lub 150 powoduje skrócenie okresu ich trwałości. Jest to związane z większą twardością i odpornością na zużycie pojedynczej warstwy ceramicznej niż systemu wielowarstwowego, gdzie twardość i własności trybologiczne naprzemianległych warstw naniesionych z czystego metalu są mniejsze. Wszystkie badane powłoki wykazują dobrą przyczepność do podłoża.
EN
Monolithic ceramic coatings and multilayer ceramic/metallic coatings were deposited onto brass (CuZn40Pb2) substrates by dc magnetron sputtering. The 1, 15 and 150-layers Ti/CrN, Ti/TiAlN, Ti/ZrN, Mo/TiAlN coatings were investigated. To improve adhesion a thin Ti or Mo layer was deposited prior to deposition of ceramic monolithic coatings. It is demonstrated in the work that the optimum mechanical properties and abrasion wear resistance were obtained for monolithic coatings, whereas increase of the number of layers to 15 or 150 results in reducing their life times. These are connected with the higher hardness and wear abrasion resistance of a single nitride layer than those of the multilayer system, where the hardness and tribological properties of the alternating layers deposited from pure metals are lower. The results show that all coatings demonstrate good adhesion.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.