Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2002

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: metoda pomiaru CV

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

System kontroli parametrów elektrycznych krzemowych warstw epitaksjalnych i dyfuzyjnych

Machalica P., Zając J., Mocny W., Młynarski B., Wójcik J., Zaremba G., Niemiec M.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2002

Vol. 43, nr 12

12-15

System stanowi zbiór niezależnych stanowisk badawczych do pomiarów charakterystyk C-V i C-t oraz rezystancji rozpływu (spreading resistance). Stanowiska pracują w sieci informatyczno-pomiarowej zbudowanej z użyciem koncentratora HUB.

In paper, a quality measurement system for semiconductor wafers also epitaxial and diffusion layers, is presented. The system consist several investigation stands for measurement C-V and C-t characteristic as well spreading resistance. The stands works in the measurement network basis on HUB concentrator.