Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Mróz W.

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: metoda laserowej ablacji

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Funkcjonalne gradientowe i wielowarstwowe struktury nanometrowej grubości, osadzone metodą laserowej ablacji

Mróz W.

Inżynieria Materiałowa

2008

Vol. 29, nr 6

699-706

Osadzanie funkcjonalnych, gradientowych i wielowarstwowych struktur nanometrowej grubości wymaga wyposażenia laboratorium w dodatkowe urządzenia, poza laserem i komorą próżniową. Osadzenie cienkich warstw z wykorzystaniem dodatkowych urządzeń w literaturze nazywa się osadzaniem hybrydowym. Laboratorium Nanotechnologii Laserowych w Instytucie Optoelektroniki WAT jest jedynym w Polsce laboratorium wyposażonym w komplet urządzeń niezbędnych do hybrydowego osadzania cienkich warstw metodą laserowej ablacji. W prezentowanej pracy zostało przedstawione laboratorium do hybrydowego nanoszenia cienkich warstw metodą laserowej ablacji (HPLD). Możliwości wynikające z zastosowania dodatkowych urządzeń przy osadzaniu warstw metodą HPLD zostały zilustrowane wynikami prac własnych.

Deposition of functional, gradient and multilayer structures of nanometr thickness make laboratories for pulsed laser deposition to equipped with extra equipment except of laser and experimental chamber. Deposition of thin films with use of extra equipment in the scientific literature is named hybryd deposition. Laboratory of Laser Nanotechnology in the Institute of Optoelectronics in Military Academy of Technology (MUT) is the only In Poland laboratory equipped for hybrid deposition of thin films. Laboratory for hybrid deposition pulsed laser deposition (HPLD) of thin films is described in this article. Our experimental results were used for illustration of application of devices needed in processes of HPLD.

Wpływ temperatury podłoża na strukturę warstw osadzonych z hydroksyapatytu, metodą laserowej ablacji laserem typu ArF

Mróz W.

Inżynieria Materiałowa

2006

Vol. 27, nr 5

1154-1158

Warstwy z syntetycznego hydroksyapatytu (Cai0(PO4)6(OH)2) osadzono metodą laserowej ablacji (PLD), na układzie lasera ekscymerowego typu ArF (193 nm), na podłożach ze stopu tytanu Til All Mn z warstwą buforową TiCN, w temperaturach: 250 1 50 °C, 400 š 50 °C, 550 š 50 °C, 700 š 50 °C. Na podstawie analizy widm absorpcyjnych zmierzonych fourierowskim spektrometrem podczerwieni (FTIR), oraz topografii warstw i odpowiadających topografiom map fazowych zmierzonych mikroskopem sił atomowych (AFM), przeanalizowano zmiany składu fazowego osadzonych warstw wraz ze wzrostem temperatury. Do analizy fazowej wykorzystano pasma absorpcyjne grup P04, OH i H20. Wykazano, że wraz ze wzrostem temperatury osadzania warstw w ich składzie chemicznym ubywa strukturalnych cząsteczek wody i grup OH. Optymalny przedział temperatur podłoża, ze względu ma maksymalną zawartość w osadzanych warstwach hydroksyapatytu, określono na (400 - 550) °C.

Synthetic hydroxyapatite (Ca1o(P04)6(OH)2) layers were deposited using laser ablation (PLD) method with the excimer laser ArF type (193 nm) set-up, on the TilAllV substrates with TiCN buffered layer with temperatures 250 š 50 °C, 400 š 50 °C, 550 š 50 °C, 700 I 50 °C. Based on absorption spectrum analyzes, measured using Fourier transform infrared method (FTIR) and layers topography with corresponding phase maps topography measured using atomic force microscope (AFM), changes of phase composition deposited layers in function of temperature were analyzed. Absorption band of PO4, OH and H2O groups were used for phase analysis. I this paper is shown, that while increase of temperature of deposited layers, chemical composition of water particles and OH groups decreases. Optimal range of substrate temperatures, caused maximum hydroxyapatite contents in deposited layers, were set to (400-550) °C.