Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  metoda XPS
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Właściwości fotokatalityczne cienkich warstw TiO2:Ag
PL
Cienkie warstwy TiO2 otrzymano metodą reaktywnego rozpylenia jonowego w systemie r.f. Powierzchnię warstw TiO2 modyfikowano nieciągłą warstwą srebra. Srebro nanoszono metodą foto-rozkładu roztworu wodnego AgNO3. Badano wpływ srebra na właściwości mikrostrukturalne i fotoelektrochemiczne cienkich warstw. Strukturę krystalograficzną i morfologię określono przy zastosowaniu GID i SEM. Stopień utlenia jonów srebra i tytanu warstw badano metodą XPS. Fotoanody TiO2 z nieciągłą warstwą srebra wykazują dużo lepszą charakterystykę fotoelektrycznego ogniwa PEC, niż niemodyfikowane elektrody.
EN
Titanium dioxide thin films are deposited by means of rf reactive sputtering. Surfaces of the films are modified by formation of discontinuous silver layers. Photo-deposition method of silver is applied using water solution of AgNO3. The effect of Ag on the microstructure and photoelecrochemical properties of thin film has been studied. The crystallographic structure and morphology of the films have been investigated by means of GID and SEM. The valence of silver and titanium ions has been studied by XPS. The photoanodes of TiO2 with modified Ag layers show significantly better properties in photoelectrochemical cells PEC, than those unmodified.
PL
Przedstawiono wyniki badań wpływu jednostkowej energii aktywowania na utlenienie i właściwości adhezyjne warstwy wierzchniej folii wytworzonej z mieszaniny polietylenu dużej gęstości i polipropylenu izotaktycznego oraz napełniaczy mineralnych. W celach porównawczych przeprowadzono również takie badania folii bez tych napełniaczy. Badania stopnia utlenienia warstwy wierzchniej wykonano metodą spektroskopii fotoelektronowej (XPS), a do badań właściwości adhezyjnych zastosowano znormalizowany test przyczepności. Na podstawie wyników badań metodą XPS stwierdzono, że stopień utlenienia obu folii wzrasta monotonicznie wraz ze wzrostem jednostkowej energii aktywowania. Jednak w pierwszej fazie aktywowania, tzn. w zakresie jednostkowej energii aktywowania mniejszej niż 3 kJ/m2, znacznie większą podatność na utlenienie wykazuje folia nienapełniona. W zakresie większych wartości tej energii procesy utlenienia przebiegają w obu rodzajach folii w sposób podobny, a ponadto w warstwie wierzchniej pojawia się azot. Jego źródłem są atomy azotu z powietrza jonizowane w szczelinie aktywatora i następnie wiążące się z materiałem folii. Zaobserwowano również, że warstwa wierzchnia folii napełnionej składa się w dominującym stopniu z osnowy polimerowej, której udział jest w tej warstwie znacznie większy niż w materiale folii. Wyniki testu przyczepności są podstawą do stwierdzenia, że folia napełniona charakteryzuje się lepszymi właściwościami adhezyjnymi niż folia nienapełniona. Pomimo to wymaga ona także odpowiedniego modyfikowania warstwy wierzchniej, celem poprawy tych właściwości.
EN
HDPE or isotactic PP film, (a) nonfilled and (b) filled (CaCO3, SiO2, MgO, CaO, TiO2 and Ca stearate), was exposed to corona discharge in the presence of air at 23°C. As the unit energy was raised, the deg. of oxidn. in the topmost a- and b-layer rose. At <3 kJ/m2, the a-layer was 4× as apt to oxidize as the b-layer; at =3 kJ/m2, both film types were nearly equally oxidized and N occurred in either type (from air). Over 0–24 kJ/m2, the deg. of oxidn. rose (a) 56 and (b) 2.5 times. The surface b-layers contained much less fillers than the bulk content. To make printing ink adhere in 70% required the films to be activated with (a) 0.75 and (b) 1.5 kJ/m2.
PL
W pracy tej, technika XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) została użyta do pomiaru odchyleń od składu stechiometrycznego w badanych warstwach. Stwierdzono, że skład chemiczny otrzymanych drobnokrystalicznych i amorficznych warstw tlenku odpowiada, w granicach błędu pomiarowego, stechiometrycznej formule MoO3. Zaobserwowano także dużą wrażliwość badanych warstw na bombardowanie jonowe w wysokiej próżni. W jego wyniku ma miejsce wyraźny, powierzchniowy ubytek tlenu. Potwierdzają to wyniki analiz, a także zmiany kształtu widma fotoelektronów w walencyjnym przedziale energii, wskazujące na wzrost koncentracji centrów donorowych.
EN
The aim of this work was to estimate the oxygen to molybdenum atomic ratios in thin films under study, by means of XPS method. The photoelectron spectra were registered for as loaded (A) crystalline and amorphous thin oxide films on silicon substrates. Using Mo(3d) and 0(1s) core level lines, the oxygen to molybdenum atomic ratios have been determined as very close, within experimental error, to the valve corresponding to stoichiometric MoO3 oxide. Films of both types have been also found to be highly sensitive to ion bombardment under high vacuum conditions. After such a treatment, significant change of core level and valence band spectra of both, crystalline and amorphous films, can be observed - (B) denoted spectra. This change is due to oxygen vacancies playing a role of donor centers.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.