Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: magnetron sputterin

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Design and simulations of medium frequency power supply for plasma processing and magnetron sputtering

Zapart Mateusz, Worek Cezary

Przegląd Elektrotechniczny

2022

R. 98, nr 2

98--101

The article presents a 4th order power converter of LCLC type. The presented solution works with a frequency of about 100 kHz, and the converter is designed to deliver supply to the magnetron. This unpopular topology has an output type that can be characterized as a current source, with the ability to generate high voltage without load, which is advantageous when used with plasma processes. Furthermore, LCLC topology in this application allows the use of slower control circuits, enabling the implementation of digital feedback loops using DSC microcontrollers.

W artykule przedstawiono, przetwornicę z obwodem rezonansowym 4 rzędu typu LCLC, pracującą na częstotliwościach około 100 kHz przeznaczoną do zasilana magnetronu. Ta nietypowa topologia charakteryzuje się wyjściem o charakterze źródła prądowego z możliwością osiągnięcia wysokiego napięcia bez obciążenia, co jest zaletą w przypadku zasilania procesów plazmowych. Wiąże się również z mniejszymi wymaganiami dotyczącymi szybkości kontrolera, co pozwala na realizację cyfrowych pętli sprzężenia z wykorzystaniem mikrokontrolerów DSC

Wpływ struktury na właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw na bazie tlenków Ti i Hf

Obstarczyk Agata, Kaczmarek Danuta, Mazur Michał, Domaradzki Jarosław, Wojcieszak Damian

Przegląd Elektrotechniczny

2019

R. 95, nr 9

111--114

Celem niniejszej pracy było wytworzenie nanokrystalicznych oraz amorficznych cienkich warstw na bazie mieszaniny tlenków Ti i Hf metodą rozpylania magnetronowego. W ramach pracy przeprowadzono również szczegółową analizę wpływu struktury wybranych warstw na ich właściwości elektryczne takie jak gęstość prądu upływu oraz względna przenikalność elektryczna, a także właściwości optyczne w tym współczynnik ekstynkcji światła.

The aim of this work was to prepare nanocrystalline and amorphous thin films based on a mixture of Hf and Ti oxides by magnetron sputtering. As a part of work, the detailed analysis of the impact of the thin films structure on their electrical properties such as leakage current density and dielectric constant and optical properties like extinction coefficient was carried out.

Low friction MoS2(Ti, W) coatings deposited magnetron sputtering

Pawlak W., Wendler B., Nolbrzak P., Makówka M., Włodarczyk K., Rylski A.

Inżynieria Materiałowa

2010

Vol. 31, nr 3

422-426

Self-lubricating coatings are important materials in modern machine engineering. Three different series of magnetron sputtered MoS2-based coatings with titanium and/or tungsten admixture have been investigated. As a result, a decrease of wear coefficient during dry friction was achieved in comparison with known MoS2-based coatings with admixture of atoms of only one transition metal. Moreover, the friction coefficient was stabilized at a level of 0.04. Other investigations of surface morphology, chemical and phase composition, microhardness and coatings' adhesion to Vanadis 23 High Speed Steel (HSS) substrate have been performed in the work as well.

Powłoki samosmarujące są ważnymi materiałami w nowoczesnej technice. Osadzono trzy serie powłok, zawierających jako osnowę dwusiarczek molibdenu z domieszkami tytanu i/lub wolframu, za pomocą rozpylania magnetronowego. Osiągnięto zmniejszenie współczynnika zużycia względem znanych powłok z domieszkami tylko jednego metalu oraz stabilizację współczynnika tarcia na poziomie 0,04. Ponadto wykonano badania morfologii powierzchni, składu chemicznego oraz fazowego, mikrotwardości oraz przyczepności powłok do stalowego podłoża.