Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Analiza właściwości struktur otrzymanych w procesie nanoszenia warstw metodą sputteringu magnetronowego z wykorzystaniem targetów o modyfikowanym składzie

Lubańska Z., Grudniewski T.

Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture

|

2014

|

z. 61, nr 3/II

329--337

PL

Wykorzystanie sputterigu jako metody nanoszenia cienkich warstw materiałów wykorzystywanych w produkcji paneli fotowoltaicznych jest powszechnie znane. W sferze eksperymentalnej częstym problemem pozostaje ekonomiczne źródło pozyskiwania targetów o modyfikowanym składzie (wieloskładnikowych) – szczególnie targetów niezbędnych do wykonania pojedynczych eksperymentów. Szczególnie problem ten jest dotkliwy w urządzeniach wykorzystujących targety o dużych rozmiarach, takich jak Line 440 firmy Alliance Concept. Rozmiar targetu w Line 440 to 38 x 13 cm i sporadycznie używana jest powierzchnia całego targetu. Uwarunkowania techniczne umieszczania targetów (w urządzeniach w konfiguracji odwróconej, gdzie target znajduje się nad napylaną próbką), koncepcji ich wytwarzania, statystyk dystrybucji materiału oraz wprowadzania niepożądanych pierwiastków zanieczyszczeń, wymagała opracowania i przygotowania oddzielnego, poświęconego tylko tej tematyce procesu badawczego. Ważne jest, że konfiguracja odwrócona magnetronu, uniemożliwia zastosowanie dodatków w postaci np. sprasowanych tabletek z materiałem. Należy nadmienić, że próba stworzenia własnych targetów do pojedynczych napyleń była rzeczą priorytetową w przedstawionych badaniach. Przeanalizowano możliwość zastosowania siatki jako elementu umożliwiającego wybijanie dodatkowego pierwiastka znajdującego się pod stworzonym targetem wieloskładnikowym. W niniejszej pracy został zawarty opis prób polegających na wytworzeniu własnych targetów wieloskładnikowych oraz metod ich montażu. Dodatkowo wykonano szczegółową analizę składu napylonych powłok, przeanalizowano możliwość mieszania się składników pochodzących z targetu w wytworzonej cienkiej warstwie oraz dystrybucję pierwiastków targetu w obrębie komory magnetronu.

EN

The magnetron sputtering method is well known as a technique for thin layers preparation. Obtained photosensitive thin layers can find usage in many fields of electronic and photovoltaic technology. Mainly prepared experiments are based on material targets provided by specialized manufacturers – with defined composition. Size of the targets define costs of its purchase specially when experiments do not provide usage of the prepared target more then once. This problem is important with devices equipped by large size targets - such as Alliance Concept Line 440 (38 x 13 cm target size). The common difficulty in experimental applications is a method of preparation of the targets with modified composition - specially multi-component ones. The technical specifications for targets (in used by presented experiments up-right magnetron construction), the concept of its preparation (compressed tablets, sputtered structures), material distribution statistics (aperture, mouting method), impurity elements – creates very interesting issue in own targets preparation and obtained layers analysis. Attempt to create targets for individual layer composition in Line 440, seemed very desirable thing and it was a priority in the presented research. In the present work has been included description of the prepared tests involving the creation of their own multiple targets and obtained structures analysis.

2

Trendy rozwojowe precyzyjnych i wydajnych narzędzi skrawających. Część I

Oczoś K.E.

Mechanik

|

2005

|

R. 78, nr 11

885-886, 888, 890, 892, 894-896

PL

Duże tempo rozwoju precyzyjnych i wydajnych narzędzi skrawających. Przykłady nowych wkładek ostrzowych. Nowe narzędzia do wewnętrznej obróbki materiałów. Aktualna sytuacja w technice nanoszenia powłok. Przykłady nowych powłok jedno- i wielowarstwowych.

EN

Big growth rate of development of precise and efficient cutting tools. Examples of new tool inserts. New tool for internal machining of materials. Current state of the art in chemical and physical vapour deposition techniques. Examples of new single-layer and multi-layer coatings.

3

Deposition of wear-resistant TiN layers in linear magnetron sputtering system.

Miernik K., Walkowicz J., Kułakowska-Pawlak B., Żyrnicki W.

Zagadnienia Eksploatacji Maszyn

|

1998

|

Vol. 33, nr 2

287-291

EN

It is the aim of this paper to study the influence of the plasma parameters of the linear magnetron with lineary extended plasma zone on the TiN layer properties and its chemical composition. Plasma parameters in different zones of plasma area were investigated using optical spectroscopy. The influence of changes in pressure on I-V characteristics and the distribution of plasma emission area were found. Practical possibilities and its application for thin film deposition are discussed.

PL

Badano wpływ parametrów plazmy liniowego magnetronu z liniowym rozszerzeniem strefy plazmy na właściwości warstwy TiN i jej skład chemiczny. Parametry plazmy w różnych strefach były badane przy użyciu spektroskopii optycznej. Wykryto wpływ zmian cisnienia na charakterystyki I-V i rozkład pola emisji plazmy. Omówiono praktyczne możliwości jego wykorzystania w nakładaniu cienkiej warstwy.