Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Ocena efektów odpuszczania laserowego zahartowanego objętościowo żeliwa sferoidalnego

Paczkowska M., Okoniewicz P., Piasecki A.

Inżynieria Materiałowa

|

2015

|

Vol. 36, nr 6

423--427

PL

Prezentowane wyniki badań dotyczą konstytuowania warstwy wierzchniej elementów żeliwnych. Celem badań była ocena możliwości wykorzystania nagrzewania wiązką laserową do aktywowania procesów odpuszczania zahartowanego elementu bez pojawienia się przy powierzchni stref przetopionych lub ponownie zahartowanych ze stanu stałego. Obróbkę wykonano za pomocą lasera molekularnego CO2 Trumpf TLF 2600 o pracy ciągłej. Podczas obróbki rejestrowano temperaturę powierzchni nagrzewanego elementu. Efekty obróbki oceniono na podstawie analizy mikrostruktury i twardości warstwy wierzchniej. Przeprowadzone badania pozwoliły ustalić, że gęstość mocy wiązki laserowej, której następstwem było wystąpienie procesów odpuszczania to 7,5 (bez występowania stref zahartowanych) i 9·102 W·cm–2 (z wystąpieniem niewielkiej strefy zahartowanej przy powierzchni) dla zastosowanego czasu oddziaływania wiązki laserowej na materiał 3,74 s. Zmniejszenie twardości osnowy w warstwie wierzchniej wyniosło ok. 200 HV0,1. Po zastosowaniu mniejszej gęstości mocy — ok. 5,5·102 W·cm–2 nie odnotowano zmniejszenia twardości. Wyniki prezentowanych badań pozwoliły stwierdzić, że jest możliwe wytworzenie strefy odpuszczonej w przypadku zahartowanych wcześniej elementów żeliwnych za pomocą nagrzewania laserowego, ale osiągnięcie tego wymaga większej precyzji w doborze parametrów obróbki niż w przypadku obróbek związanych z utwardzaniem warstwy wierzchniej.

EN

Presented research results concern designing aspects of surface layer of cast iron parts. The aim of presented research was to estimate the possibilities of laser heating for annealing processes without appearing of the remelted zone or the zone hardened from the solid state near the surface. Laser treatment was performed with CO2 Trumpf TLF 2600 molecular laser with continuous wavelength. During the laser treatment surface temperature was recorded. The results of performed treatment were estimated on the base of microstructure analysis and microhardness measurements. The carried out research enabled to state, that the power densities which caused annealing processes (without reherdened zones presence) is 7.5 and 9·102 W·cm–2 (with thin hardened layer) for 3.74 s interaction time. The decrease of matrix microhardness in the surface layer was approx. 200 HV0.1. In case of application lower power density — about 5.5·102 W·cm–2 no microhardness changes was recorded. The results of presented research enable to state, that creation of annealed zone (as only one modified zone in surface layer) in case of hardened cast iron parts is possible by laser heating. However, it requires more precision in laser treatment parameters selection, than in case of treatments involving surface layer hardening.

2

Influence of laser annealing on physical properties of HgCdTe

Pociask M., Sheregii E. M., Kuźma M.

Archiwum Odlewnictwa

|

2003

|

R. 3, nr 7

199-208

EN

Thermodiffusion model of laser annealing and decomposition of the material is presented. It has been shown that the processes of atoms diffusion at laser annealing of HgCdTe (MCT) can cause the specific conditions of decomposition of the solid solution. The idea of the possible formation of p-n heterojunction, which was shown by computer modelIing of mass transportation processes under laser treatment of the mercury cadmium telluride was experimentally realized. MCT samples were irradiated without melting with an YAG neodymium laser.

PL

Zaprezentowano model laserowego wygrzewania i dekompozycji roztworów stałych HgCdTe. Pokazano, że w modelu tym ogromną rolę odgrywają strumienie fononów. Ich wielkość ściśle zależy od tej części objętości laserowo wygrzewanego materiału, w której gradienty temperatury są największe. Strumienie fononów mogą być tak silne, że porywają najsłabiej związane w sieci atomy rtęci a te mają tendencję do gromadzenia się w miejscu występowania maximum gradientu temperatury. Pokazano, że proces chemicznej dyfuzji atomów wywołany silnym impulsowym laserowym wygrzewaniem tellurku kadmowo rtęciowego (MCT) stwarza specyficzne warunki burzenia jednorodnej początkowo struktury wewnętrznej półprzewodnika. Występowanie w laserowo wygrzewanym HgCdTe heterozłącza w pobliżu naświetlanej powierzchni potwierdzono pomiarami fotoczułości oraz rentgenowską analizą składu. Próbki jednorodnie wygrzewano przy pomocy lasera YAG:Nd3+ bez przetopienia naświetlanej powierzchni.

3

Laserowe wyżarzanie rezystorów grubowarstwowych

Bobitski J., Szela S.

Archiwum Odlewnictwa

|

2002

|

R. 2, nr 6

31-36

PL

W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań możliwości zastosowania lasera do wyżarzania grubowarstwowych elementów rezystywnych. Celem badań było osiągnięcie odpowiedniej wydajności laserowego utwardzania rezystywnych warstw grubych, wykonanych na bazie węgla na osnowie polimerowej.

EN

The paper presents results of the research on the potential application of laser for annealing of resistive thick-film components. The objective of the study was to achieve an optimum efficiency of laser hardening of resistive thick-films manufactured on the carbon base and on polymer matrix.